[发明专利]一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备有效
申请号: | 201910118898.5 | 申请日: | 2019-01-26 |
公开(公告)号: | CN109590824B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 付莹;于占东;杨彬;郭继宁;邢星;于震 | 申请(专利权)人: | 渤海大学 |
主分类号: | B24B21/02 | 分类号: | B24B21/02;B24B21/18;B24B41/06 |
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地址: | 121000 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 旋转 抛光 设备 | ||
本发明公开了一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备,属于旋转靶加工设备领域,用以解决抛光设备存在不方便对旋转靶端口台阶处进行抛光的问题,包括机架、装夹机构和抛光机构,机架由第一支撑座和第二支撑座组成,装夹机构可滑动地设置在第一支撑座上,抛光机构可滑动地设置在所述第二支撑座上,装夹机构包括第一底座、转动筒、螺纹块顶杆,所述抛光机构包括两组抛光组、第二底座、摆臂和丝杠,本发明的装夹机构能够对不同长度的旋转靶进行固定,抛光机构能够自动对旋转靶整体进行抛光,在抛光机构移动至旋转靶端口处时,通过升降轮的调整能够让抛光机构对旋转靶端口的台阶进行抛光,能够减少工人的参与,降低工人劳动强度,提高工作效率。
技术领域
本发明涉及旋转靶加工设备领域,特别涉及一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备。
背景技术
旋转靶材的靶材表面粗糙度对磁控溅射的成膜速度和均匀性影响很大,目前,一般通过工人手工抛光旋转靶材的靶材表面,存在着劳动强度大,抛光不均匀,抛光精度低,抛光效率低的问题,尤其缺乏针对长度较长的旋转靶材的精密抛光设备,因此有必要予以改进;
申请号为201820425795.4的专利公开了一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备,包括机架、装夹装置和抛光装置,装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上,抛光装置包括有一滑动底座和横向驱动机构,滑动底座滑动安装于机架,横向驱动机构传动连接滑动底座,滑动底座的上部旋转安装有一摆臂,摆臂安装有能够替换使用的抛光带,其上设置有横向调节功能的抛光装置,实现长度较长的旋转靶材的整管抛光,其上设置的装夹装置在装夹旋转靶的时候会夹到一部分旋转靶,使得这部分旋转靶不能被抛光到,还需工人参与进行抛光,工人抛光时还需对旋转靶重新装夹,十分麻烦,一般的旋转靶的端口处具有台阶或锥形斜面,使用此抛光设备不方便对端口台阶处进行抛光,也需要工人再去抛光,降低了工作效率。
发明内容
本发明提供一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备,可以解决一些抛光设备不方便对旋转靶端口台阶处进行抛光的问题。
一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备,包括机架、用于装夹旋转靶的两个装夹机构和抛光机构,所述机架由第一支撑座和第二支撑座组成,其中一个所述装夹机构可滑动地设置在所述第一支撑座上,另一个所述装夹机构固定安装在所述第一支撑座上,所述抛光机构可滑动地设置在所述第二支撑座上。
较佳的,两个所述装夹机构均包括第一底座、可转动地设置在所述第一底座上的转动筒、螺纹连接在所述转动筒内的螺纹块和多个用于固定旋转靶的顶杆,所述第一支撑座内安装有第一电机,所述转动筒上开设有用于给所述顶杆让位的让位槽,所述顶杆的一端抵触在所述螺纹块上,另一端穿过所述让位槽并伸出转动筒外,所述转动筒内还设置有用于给所述顶杆导向的导向斜面,所述螺纹块远离所述顶杆的一端固定安装有用于转动螺纹块的转轮,所述转动筒的外侧还设置有用于挡住旋转靶的挡环,所述第一电机的输出轴通过皮带传动机构与其中一个所述装夹机构的所述转动筒传动连接。
较佳的,两个所述装夹机构分别设置在所述第一支撑座的两侧,所述第一电机的输出轴通过皮带传动机构与固定在所述第一支撑座上的所述装夹机构的所述转动筒传动连接。
较佳的,所述第一支撑座上固定安装有滑轨,所述第一底座的底部开设有与所述滑块相匹配的轨槽。
较佳的,所述抛光机构包括两组抛光组、第二底座、摆臂、丝杠,所述第二支撑座的顶部开设有凹槽,所述丝杠的一端可转动地设置在所述凹槽内、另一端伸出所述第二支撑座外,所述第二支撑座内还设置有第二电机,所述第二电机的输出轴通过皮带传动机构与所述丝杠传动连接,所述第二底座的底部固定连接有连接块,所述连接块的一部分位于所述凹槽内并螺纹连接在所述丝杠上,所述摆臂的一端铰接在所述第二底座上,所述第二底座上还设置有用于支撑所述摆臂的支撑杆,两组所述抛光组分别设置在所述摆臂的两侧;
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