[发明专利]一种上分散型真空均质乳化机

说明书

本发明公开了乳化领域的一种上分散型真空均质乳化机，包括密封罐体；还包括设置在密封罐体中轴线上的中心搅拌电机；还包括对称设置在中心搅拌电机两侧的副搅拌装置；所述密封罐体包括加热介质层，还包括设置在外围的隔热保温层；所述密封罐体底部设置有出料口，所述出料口处连接有均质机；所述中心搅拌电机固定连接有中心搅拌浆，所述中心搅拌桨由上向下设置有间距相等的三个阻流板，所述中心搅拌桨末端通过连接板与刮壁搅拌装置连接，所述刮壁搅拌装置内侧设置有四个阻流板；所述副搅拌装置倾斜设置在中心搅拌桨与刮壁搅拌装置之间。本发明结构新颖，乳化、剪切均匀，细腻度高。

技术领域

本发明涉及乳化装置领域，特别涉及一种上分散型真空均质乳化机。

背景技术

真空均质乳化机是集混合、分散、均质、乳化和吸粉多功能于一体的成套系统，带有电控系统，也可配合外围油、水相罐、真空、加热、冷却系统等使用，是生产药用乳膏、高档膏霜、乳液等的专用设备。均质乳化机的原理是物料在水锅、油锅内通过加热、搅拌进行混合反应后，由真空泵吸入乳化锅，通过乳化锅内上部的中心搅拌、聚四氟乙烯刮板始终迎合搅拌锅形体，扫净挂壁粘料，使被刮取的物料不断产生新界面，再经过叶片与回转叶片的剪断、压缩、折叠，使其搅拌、混合而向下流往锅体下方的均质器内，物料在通过告诉旋转的切割轮与固定的切割套之间所产生的强力的剪断、冲击、乱流等过程，物料在剪切缝中被切割，迅速破碎成200nm-2um的微粒，由于乳化锅处于真空状态，物料在搅拌过程中产生的气泡及时被抽走。

现有的阻流工艺是采用板材直接焊接在容器上面，搅拌是会产生泡状，容器里面的物料达不到充分剪切，不能保证产品的细腻度，改用上分散后，彻底解决了这个难题，特别适用粘度较高的物料，工作时通过上面高速（单层或多层）分散带来的动能，结合中心的刮壁搅拌，使物料在离心状态下均匀的剪切、乳化，保证了产品的细腻度。

发明内容

本发明的目的是提供剪切乳化均匀、细腻度高的一种上分散型真空均质乳化机。

本发明的目的是这样实现的：一种上分散型真空均质乳化机，包括密封罐体；还包括设置在密封罐体中轴线上的中心搅拌电机；还包括对称设置在中心搅拌电机两侧的副搅拌装置；

所述密封罐体包括加热介质层，还包括设置在外围的隔热保温层；所述密封罐体底部设置有出料口，所述出料口处连接有均质机；

所述中心搅拌电机固定连接有中心搅拌浆，所述中心搅拌桨由上向下设置有间距相等的三个阻流板，所述中心搅拌桨末端通过连接板与刮壁搅拌装置连接，所述刮壁搅拌装置内侧设置有四个阻流板；

所述副搅拌装置倾斜设置在中心搅拌桨与刮壁搅拌装置之间，所述副搅拌装置包括搅拌电机，还包括分散轴；所述分散轴与搅拌电机连接处设置有空心圆柱固定座，所述分散轴、空心圆柱固定座通过连接法兰与搅拌电机连接；所述空心圆柱固定座穿过密封罐体并通过密封垫密封，所述空心圆柱固定座下端与分散轴之间设置有轴承并通过端盖固定；所述分散轴上设置有上分散盘与下分散盘。

与现有技术相比，本发明的有益之处在于：由于现有的阻流工艺是采用板材直接焊接在容器上面，搅拌是会产生泡状，容器里面的物料达不到充分剪切，不能保证产品的细腻度；采用上分散搅拌后，彻底解决了这个难题，特别适用粘度较高的物料，工作时通过上面高速（单层或多层）分散带来的动能，结合中心的刮壁搅拌，使物料在离心状态下均匀的剪切、乳化，保证了产品的细腻度。

作为本发明的选方案，所述中心搅拌桨上的三个阻流板的长度由上而下递减。

作为本发明的进一步优选方案，所述刮壁搅拌装置内侧的上三个阻流板与中心搅拌桨上的三个阻流板在同一平面上。

作为本发明的进一步优选方案，所述刮壁搅拌装置内侧的四个阻流板大小规格相同。

作为本发明的进一步优选方案，所述上分散盘设置在中心搅拌桨上的第二阻流板与第三阻流板之间区域，所述下分散盘设置在中心搅拌桨上的第三阻流板的下方区域。