[发明专利]一种双层绿膜镜片的镀膜方法

权利要求书

1.一种双层绿膜镜片的镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）装置及填料准备：把待镀膜的树脂镜片放到镀膜机的真空室内的镜片挂架上，然后人工添加镀膜所需的镀膜材料到真空室下方的三个不同坩埚内，检查每个坩埚与真空室相连接的电子喷枪固定牢靠到位，其中凸凹面镀膜材料均为：SiO₂、ZrO₂、ITO，做好准备工作后关上真空室门；

2）抽真空：打开镀膜机总电源，确定循环泵、压缩机工作，使镀膜机内部压力达到2.5×10^-3Pa，温度加热到250℃并保持恒温30分钟，去除镀膜机真空室中的水分；

3）树脂镜片凸面蒸镀膜：将树脂镜片的凸面朝下，设定镀膜真空室温度45~55℃，真空室压力3×10^-3Pa~1×10^-1Pa，将盛放镀膜材料的坩埚的温度设定为1280℃，电子喷枪的发射电子温度控制在380-450℃，功率22MA，使用电子喷枪将镀膜材料均匀喷涂在镜片的凸面上蒸镀形成绿膜镀膜层，绿膜镀膜层共为八层；

4）树脂镜片凹面蒸镀膜：凸面镀完后再将镜片进行翻转，用同样的工艺对凹面进行蒸镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种双层绿膜镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）、4）凸、凹面绿膜镀膜工艺分八层：第一层，材料为ZrO₂，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为7.6nm，O₂体积流量为20sccm；镀膜层数：第二层，材料为SiO₂，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为87.5±4nm，O₂体积流量为20sccm；第三层，材料：ZrO₂，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为11.8±1nm，O₂体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO₂，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为27.3±1nm，O₂体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO₂，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为92.9±4nm，O₂体积流量为5sccm；第六层，材料：ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.9nm，O₂体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO₂，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为76.6nm，O₂体积流量为5sccm；第八层，材料为氟化物防水药，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为3.8nm；八层镀膜的厚度为313.4±10nm。

3.根据权利要求1所述的一种双层绿膜镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）、4）中第一、第二层镀膜的真空室压力为1×10^-2Pa，第三层到第七层镀膜真空室压力为3×10^-3Pa，第八层镀膜真空室压力为1×10^-1Pa。

4.根据权利要求1所述的一种双层绿膜镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）、4）中第一到第五层采用阳极电压为80V，阳极电流为2.5A，中和电流为0.15A，AR体积流量15sccm；第六到第八层采用阳极电压为80V，阳极电流为2A，中和电流为0.2A，AR体积流量15sccm。