[发明专利]一种可视化版图编辑方法

说明书

一种可视化版图编辑方法，具有可视化的版图编辑功能，以可视化形式标示待修改参数的方向及尺寸；使用测量工具对背景图像进行测量；依据测量值调整参数化单元的尺寸。能够以可视形式提示待修改参数信息，并能按照测量信息调整实际版图的尺寸和位置信息，减少录入工作。

技术领域

本发明涉及集成电路版图设计领域，尤其涉及一种参数化单元的绘制方式，及使用可视化的方式编辑版图尺寸信息的方法。

背景技术

为提高版图绘制效率，在进行重复版图结构绘制时，会使用工艺厂商提供的工艺数据包（Process Design Kit，PDK）进行参数化单元绘制。PDK是工艺厂商基于工艺开发的一套包括器件信息、工艺信息和验证文件的设计数据包。PDK库中包含了多种类型的参数化单元（Parameterized Cell，Pcell），例如晶体管、电阻、电容、三极管、孔单元等Pcell器件。Pcell单元内部的各个版图层次满足工艺规则的要求，仅仅修改Pcell参数，就可以生成不同尺寸的器件或阵列孔，以加快绘制版图。

集成电路版图设计的两个主要方面是：器件和金属互连。在绘制器件版图时，如果存在PDK库，可以使用Pcell进行绘制；如果没有PDK库，对器件需要进行分层绘制。

不使用PDK库进行版图绘制时，绘制器件繁琐。例如，在进行没有PDK库的反向版图绘制时，需要先对芯片背景图像中的器件进行尺寸测量，根据测量所得的器件尺寸使用Path线（等宽线）进行器件绘制。Path线是绘制器件常用的版图图形，具有宽度默认，长度随绘制线条长度变化的特征。Path线的宽度通常为默认值或遵循前一次绘制的宽度，如果连续两次绘制的Path线宽度不同，在后一次绘制后需要手工录入调整Path宽度以符合绘制要求，步骤繁琐。而同一款芯片中器件的尺寸又较为多变，因此，使用Path线绘制不同尺寸器件时，手工调整Path线宽的工作繁琐。

在使用PDK库进行反向版图器件绘制时，需要包含引用特定的Pcell器件、测量器件尺寸、录入Pcell尺寸三个步骤。由于各个器件的尺寸大小不一，在使用EDA工具绘制不同尺寸器件时，需要经常录入调整Pcell器件的宽度和长度信息，工作十分繁琐，容易出错，工作量也大。

绘制器件版图时，无论是否使用Pcell单元，还是使用独立层次进行器件绘制，都需要手工录入参数，在有较多器件的模拟芯片的版图绘制中，每个器件都需要如此进行参数录入。工作量巨大，且录入时容易出错。

PDK库中的Pcell单元是跟固定工艺绑定的。例如，某厂商的0.5um工艺的PDK库，其中的Pcell内部的间距、宽度等仅满足0.5um工艺规则的要求。当芯片进行升级改用0.35um工艺时，则需要重新设置0.18工艺的PDK库，制作新的Pcell单元。由此可见Pcell单元不能随工艺进行变迁。工艺发生变化时，需要重新制定Pcell。无论是芯片正向设计还是反向设计都存在这些问题。同时，Pcell器件为厂商定制器件，很难基于该器件对器件测量进行二次开发。

发明内容

本发明提供一种可视化的版图编辑方法，根据图像背景测量器件尺寸后，可以自动录入器件尺寸，并对器件内部的各个版图图形进行调整，使得各个版图图形满足工艺规则要求，使得测量结果与录入结果完全一致，所见即所得，消除手工录入参数引入的错误。

本发明提供一种可视化的版图编辑方法，根据图像背景测量器件尺寸后，可以自动生成与测量值相同的器件，可以依据测量位置放置器件。

本发明提供的可视化的编辑方法之一，在选定需要设置的参数后，在编辑界面用可视化的方法标识参数值，软件自动识别参数值，将参数值设置为具体参数，改变器件的参数尺寸。

本发明提供的一种参数化的单元，能够根据测量所得的尺寸，直接调整器件内部的各个版图图形，使得器件内部的各版图图形满足工艺规则要求。

附图说明

图1为本发明的参数化单元创建方法；