[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910110762.X 申请日: 2019-02-12
公开(公告)号: CN109817831B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 李俊杰;张嵩;李园园 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制造 方法 显示装置
【说明书】:

本申请公开一种显示基板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。显示基板包括衬底基板以及依次设置在衬底基板上的发光器件层、薄膜封装层、光学胶层和偏光片,偏光片通过光学胶层贴附在薄膜封装层远离发光器件层的一面上,光学胶层中掺杂有氨气吸收物。本申请可以降低从薄膜封装层溢出的氨气与偏光片发生反应的风险,从而降低偏光片褪色的风险,改善显示装置的显示效果。本申请用于降低偏光片褪色的风险。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode;简称:OLED)显示基板具有可柔性显示的优点,广泛应用于柔性显示产品当中。OLED显示基板包括衬底基板以及依次设置在衬底基板上的发光器件层、封装层和偏光片(英文:Polarizer;简称:POL),封装层主要用于将发光器件层与空气隔离,偏光片主要用于对OLED显示基板进行调光。

目前,由于柔性显示的市场需求,封装层主要为通过薄膜封装(英文:Thin FilmEncapsulation;简称:TFE)技术形成的薄膜封装层。形成薄膜封装层的过程包括:以氨气(NH3)、甲硅烷(SiH4)和氮气(N2)等的混合气体作为反应气体在发光器件层远离衬底基板的一侧沉积氮化硅作为薄膜封装层。

但是,NH3、SiH4和N2反应的过程中会生成铵离子,在形成薄膜封装层后,部分铵离子会残留在薄膜封装层中,在显示基板的使用过程中,这些铵离子会以氨气的形式从薄膜封装层溢出与偏光片发生反应,导致偏光片褪色,影响显示装置的显示效果。

发明内容

本申请提供一种显示基板及其制造方法、显示装置,可以降低偏光片褪色的风险,从而改善显示装置的显示效果。所述技术方案如下:

第一方面,提供一种显示基板,所述显示基板包括:

衬底基板以及依次设置在所述衬底基板上的发光器件层、薄膜封装层、光学胶层和偏光片,所述偏光片通过所述光学胶层贴附在所述薄膜封装层远离所述发光器件层的一面上,所述光学胶层中掺杂有氨气吸收物。

可选地,所述光学胶层具有中央区域和围绕所述中央区域的边缘区域,所述边缘区域所掺杂的所述氨气吸收物的密度大于所述中央区域所掺杂的所述氨气吸收物的密度。

可选地,所述氨气吸收物包括硫酸氢铵和氨气分子筛中的至少一种,所述氨气分子筛的孔径大于氨气分子的孔径。

可选地,所述氨气分子筛包括4A分子筛。

可选地,所述光学胶层具有两个胶面,至少一个所述胶面上粘附有所述氨气吸收物。

可选地,所述光学胶层的材料中混合有所述氨气吸收物,所述氨气吸收物掺杂在所述光学胶层内。

可选地,所述显示基板还包括设置在所述偏光片远离所述薄膜封装层的一侧的保护层。

第二方面,提供一种显示基板的制造方法,所述方法包括:

在衬底基板上依次形成发光器件层和薄膜封装层;

通过掺杂有氨气吸收物的光学胶层,在所述薄膜封装层远离所述发光器件层的一面上贴附偏光片。

可选地,所述方法还包括:在所述偏光片远离所述薄膜封装层的一侧形成保护层。

第三方面,提供一种显示装置,所述显示装置包括:第一方面或第一方面的任一可选方式所述的显示基板。

本申请提供的技术方案带来的有益效果是:

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