[发明专利]以低温触媒脱硝除尘的方法及设备

权利要求书

1.一种以低温触媒脱硝除尘的方法，适用于去除废气中的粉尘及氮氧化物，其特征在于：所述以低温触媒脱硝除尘的方法包含下列步骤：

前处理步骤，在所述废气中混合氨基还原剂，使所述废气形成待还原气体；及

触媒步骤，在反应温度下将所述待还原气体输入至少一个附有触媒的滤管，触媒具有钛氧化物、钒氧化物、钼氧化物及钨氧化物，使所述待还原气体通过所述至少一个滤管时，形成去除粉尘及氮氧化物的还原气体。

2.一种以低温触媒脱硝除尘的方法，适用于去除废气中的粉尘及氮氧化物；其特征在于：所述以低温触媒脱硝除尘的方法包含下列步骤：

脱硫步骤，在所述废气中混合脱硫剂，脱硫剂是选自于石灰石、白云石、消石灰，或钙基吸收剂，使所述废气形成已脱硫气体；

前处理步骤，在所述已脱硫气体中混合氨基还原剂，使所述已脱硫气体形成待还原气体；及

触媒步骤，在反应温度下将所述待还原气体输入至少一个附有触媒的滤管，触媒具有钛氧化物、钒氧化物、钼氧化物及钨氧化物，使所述待还原气体通过所述至少一个滤管时，形成去除粉尘及氮氧化物的还原气体。

3.根据权利要求1或2所述的以低温触媒脱硝除尘的方法，其特征在于：在所述触媒步骤中，触媒还具有镁氧化物及氟化合物。

4.根据权利要求3所述的以低温触媒脱硝除尘的方法，其特征在于：在所述触媒步骤中，以触媒的总重量为100wt％计，触媒具有：

钛氧化物，重量百分比为60wt％至90wt％；

钒氧化物，重量百分比为0.1wt％至10wt％；

钼氧化物，重量百分比为1wt％至20wt％；

钨氧化物，重量百分比为1wt％至20wt％；

镁氧化物，重量百分比为0.1wt％至10wt％；及

氟化合物，重量百分比为0.1wt％至10wt％。

5.根据权利要求1或2所述的以低温触媒脱硝除尘的方法，其特征在于：在所述触媒步骤中，所述反应温度为150℃至250℃。

6.一种以低温触媒脱硝除尘的设备，适用于去除废气中的粉尘及氮氧化物，其特征在于：所述以低温触媒脱硝除尘的设备包含：

前处理单元，适用于在所述废气中混合氨基还原剂，使所述废气形成待还原气体；及

触媒单元，连通所述前处理单元，并包括至少一个适用于供所述待还原气体通过的滤管，及附着于所述至少一个滤管的触媒，所述触媒具有钛氧化物、钒氧化物、钼氧化物及钨氧化物，使所述待还原气体通过所述至少一个滤管时，形成去除粉尘及氮氧化物的还原气体。

7.一种以低温触媒脱硝除尘的设备，适用于去除废气中的粉尘及氮氧化物；其特征在于：所述以低温触媒脱硝除尘的设备包含：

脱硫单元，适用于在所述废气中混合脱硫剂，使所述废气形成已脱硫气体；

前处理单元，连通所述脱硫单元，并适用于在所述已脱硫气体中混合氨基还原剂，使所述已脱硫气体形成待还原气体；及

触媒单元，连通所述前处理单元，并包括至少一个适用于供所述待还原气体通过的滤管，及附着于所述至少一个滤管的触媒，所述触媒具有钛氧化物、钒氧化物、钼氧化物及钨氧化物，使所述待还原气体通过所述至少一个滤管时，形成去除粉尘及氮氧化物的还原气体。

8.根据权利要求6或7所述的以低温触媒脱硝除尘的设备，其特征在于：所述至少一个滤管具有多个相互交织的陶瓷纤维。

9.根据权利要求6或7所述的以低温触媒脱硝除尘的设备，其特征在于：所述触媒还具有镁氧化物及氟化合物。

10.根据权利要求9所述的以低温触媒脱硝除尘的设备，其特征在于：以所述触媒的总重量为100wt％计，所述触媒具有：

钛氧化物，重量百分比为60wt％至90wt％；

钒氧化物，重量百分比为0.1wt％至10wt％；

钼氧化物，重量百分比为1wt％至20wt％；

钨氧化物，重量百分比为1wt％至20wt％；

镁氧化物，重量百分比为0.1wt％至10wt％；及

氟化合物，重量百分比为0.1wt％至10wt％。