[发明专利]光学元件、辐射系统及光刻系统有效

专利信息
申请号: 201910106311.9 申请日: 2014-09-24
公开(公告)号: CN110083019B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: R·栋克尔;E·鲁普斯特拉;H-K·尼恩惠斯;B·克鲁兹卡 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G21K1/06;H01S3/09
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 辐射 系统 光刻
【权利要求书】:

1.一种光学元件,包括:

主体;

反射性表面,所述反射性表面设置于所述主体上以用于接收辐射束以便形成束斑区域和反射的辐射束;和

移动机构,所述移动机构能够操作以移动所述主体使得所述束斑区域遵循周期性路径在所述反射性表面上移动,并且所述反射的辐射束的方向实质上保持不变;

用于更改所述反射性表面的曲率的变形机构,其中所述变形机构被布置成更改所述反射性表面的所述曲率以便至少部分地校正由入射于所述反射性表面上的所述辐射束所导致的所述反射性表面的曲率的变化。

2.根据权利要求1所述的光学元件,其中所述主体是大体圆盘形状的并且所述移动机构能够操作以围绕旋转轴线旋转所述主体。

3.根据权利要求1所述的光学元件,其中所述反射性表面设置于所述主体的面向轴向的表面上。

4.根据权利要求3所述的光学元件,其中所述变形机构能够操作以更改所述反射性表面的径向曲率。

5.根据权利要求3或权利要求4所述的光学元件,其中所述变形机构能够操作以施加大体轴向力到所述主体的径向外部边缘。

6.根据权利要求5所述的光学元件,其中所述主体是大体圆盘形状的并且所述变形机构包括远离所述大体圆盘形状的主体延伸的一个或多个构件,所述构件由磁性材料和一个或多个电线圈形成,其中所述大体轴向力通过来自对所述一个或多个构件作用的所述一个或多个电线圈的磁力施加到所述主体的所述径向外部边缘。

7.根据权利要求3或权利要求4所述的光学元件,其中所述主体是大体圆盘形状的并且所述变形机构包括远离所述大体圆盘形状的主体轴向地延伸的一个或多个质量体,并且其中所述主体的旋转致使离心力在向外的径向方向上对所述多个质量体产生作用,所述离心力产生对所述主体的径向外部边缘作用的力矩,从而更改所述反射性表面的径向曲率。

8.根据权利要求3或4所述的光学元件,其中所述主体的轴向厚度在径向方向上变化。

9.根据权利要求8所述的光学元件,其中所述主体的所述轴向厚度大体与由辐射束施加到所述束斑区域的热负荷匹配以使得由所述变形机构施加到接收相对高热负荷的所述反射性表面的径向位置的曲率量大体高于由所述变形机构施加到接收相对低热负荷的所述反射性表面的径向位置的曲率量。

10.根据权利要求1到4中的任一个所述的光学元件,其中所述变形机构包括一个或多个加热元件,所述一个或多个加热元件被布置成施加热负荷到在所述束斑区域附近的、所述主体的与所述反射性表面相反的表面。

11.根据权利要求10所述的光学元件,其中被施加到所述主体的与所述反射性表面相反的表面的所述热负荷大体与由所述辐射束施加到所述束斑区域的所述热负荷互补。

12.根据权利要求10所述的光学元件,其中被施加到所述主体的与所述反射性表面相反的表面的所述热负荷大体类似于由所述辐射束施加到所述束斑区域的所述热负荷。

13.根据权利要求1到4中的任一个所述的光学元件,进一步包括在所述光学元件的所述主体中用于冷却流体流的一个或多个通道,其中所述一个或多个通道至少部分地设置于所述反射性表面设置所在的所述主体的一部分中。

14.根据权利要求1到4中的任一个所述的光学元件,其中所述主体成形于所述反射性表面下方以便至少部分地减少由入射于所述反射性表面上的辐射束所导致的所述反射性表面的温度的变化。

15.根据当直接地或间接地从属于权利要求2时的权利要求14所述的光学元件,其中所述反射性表面设置于所述主体的面向径向的表面上。

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