[发明专利]显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括衬底、金属走线层、像素定义层；

暴露所述对位标记，在所述像素定义层上形成覆盖部，所述覆盖部在所述衬底上的投影与所述金属走线层在所述衬底上的投影至少部分重叠，所述覆盖部用于防止金属走线层反光；

所述暴露所述对位标记，在所述像素定义层上形成覆盖部，包括：在所述像素定义层上形成具有透光性可变的覆盖层，使所述对位标记可识别；利用所述对位标记对所述覆盖层图形化，形成覆盖部；对所述覆盖部进行遮光化处理；

或者，所述暴露所述对位标记，在所述像素定义层上形成覆盖部，包括：在所述像素定义层上形成遮光性材料层，所述对位标记暴露在所述遮光性材料层之外，形成遮光性材料层的工艺包括狭缝涂布工艺、丝网印刷工艺、蒸镀工艺或喷墨打印工艺。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述像素定义层上形成具有透光性可变的覆盖层，包括：通过电镀、蒸镀、涂布、丝网印刷、或喷墨打印中的至少之一的方式在所述像素定义层上整面形成具有透光性可变的覆盖层，使所述对位标记可识别。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，对所述覆盖部进行遮光化处理之前，所述覆盖层包括透光性银层；对所述覆盖部进行遮光化处理之后，所述覆盖层包括银的氧化物。

4.根据权利要求1或3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对所述覆盖部进行遮光化处理，包括：对所述透光性可变的材料进行黑化处理，形成所述覆盖部。

5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，具有所述透光性可变材料的覆盖部的厚度为0.5－6μm。

6.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，对所述透光性可变材料黑化处理的深度为0.5－5μm。

7.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对所述透光性可变材料进行黑化处理，包括：通过照射氧等离子体、加热氧化或卤化物还原中的至少之一的方式将所述透光性可变材料黑化。

8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板的制备采用如权利要求1－7任意一项所述的显示面板制作方法；

所述显示面板包括：

具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括衬底、金属走线层、像素定义层；

覆盖部，所述覆盖部形成于所述像素定义层上，所述覆盖部在所述衬底上的投影与所述金属走线层在所述衬底上的投影至少部分重叠，所述覆盖部用于防止金属走线层反光。