[发明专利]双检测器气体检测系统

权利要求书

1.一种气体检测设备，包括：

光生成元件(115)；

光学系(105)，所述光学系被配置成为由所述光生成元件生成的光提供光学路径以行进至和离开目标介质(110)，所述光学系包括第一反射表面(135)和第二反射表面(140)，其中所述光学系包括一体构造光学系，使得所述第一反射表面和所述第二反射表面与所述光学系整体地且一体地形成，

其中所述光学系还包括至少一个竖直延伸的壁(210A, 210B)，并且，

其中所述第一反射表面和所述第二反射表面相对于所述至少一个竖直延伸的壁以45°角度取向；

初级检测器(125)；

参考检测器(130)；和，

光学元件(120)，所述光学元件设置在所述光学系内，所述光学元件被配置为：

在由所述光生成元件生成的第一光流已与所述目标介质相互作用之后将所述第一光流偏转至所述第一反射表面，使得所述第一反射表面将所述第一光流偏转至所述初级检测器，以及，

将由所述光生成元件生成的第二光流偏转至所述第二反射表面，使得所述第二反射表面将所述第二光流偏转至所述参考检测器。

2.根据权利要求1所述的气体检测设备，其中所述光学元件被包括在所述光学系中，使得所述光学元件与所述光学系整体地且一体地形成。

3.根据权利要求1所述的气体检测设备，其中所述光学元件包括双面反射镜。

4.根据权利要求1所述的气体检测设备，其中所述光学元件包括分束器。

5.根据权利要求1所述的气体检测设备，还包括抗反射(AR)涂层(310)，所述AR涂层位于所述光学系的至少一个表面上并且被设置成避免杂散光印记在所述初级检测器和所述参考检测器处被检测到。

6.根据权利要求1所述的气体检测设备，还包括至少一个壁(315)，所述至少一个壁设置在所述光生成元件与所述初级检测器和所述参考检测器中的至少一者之间，以避免杂散光印记在所述初级检测器和所述参考检测器处被检测到。

7.根据权利要求1所述的气体检测设备，其中所述光学系还包括波导(405)，所述波导有利于将从所述光生成元件发射的光引导至和离开所述目标介质。

8.根据权利要求1所述的气体检测设备，其中：

所述第一反射表面包括第一弯曲反射表面(415A)，所述第一弯曲反射表面被配置为将所述第一光流集中在所述初级检测器处，并且，

所述第二反射表面包括第二弯曲反射表面(415B)，所述第二弯曲反射表面被配置为将所述第二光流集中在所述参考检测器处。

9.根据权利要求1所述的气体检测设备，还包括：

处理器(150)，所述处理器可操作地耦接到所述光生成元件、所述初级检测器和所述参考检测器；和，

数据存储库(160)，所述数据存储库可操作地耦接到所述处理器并存储指令，所述指令在由所述处理器执行时，使得所述处理器执行操作以识别所述目标介质，所述操作包括：

激活所述光生成元件；

从所述初级检测器接收指示所述第一光流的特征的初级信号；

从所述参考检测器接收指示所述第二光流的特征的参考信号；

基于所接收的初级信号确定所述目标介质的身份。