[发明专利]基板处理装置及系统、半导体装置的制作方法、记录介质

说明书

本发明提供一种基板处理装置。本发明的课题是用于对基板处理装置实现高效的管理的技术。具备：处理室，其对基板进行处理；位置信息取得部，其取得处理室的位置信息；存储部，其保存位置信息；信息控制部，其将位置信息取得部取得的位置信息保存在存储部中，并且根据需要输出存储部所保存的位置信息。

技术领域

本发明涉及基板处理装置。

背景技术

作为在半导体装置的制造工序中使用的基板处理装置的一个实施例，例如有具备具有反应器的模块的装置(例如参照专利文献1)。在这样的基板处理装置中，将装置运转信息等显示在由显示器等构成的输入输出装置上，以便装置管理者能够进行确认。另外，在制造半导体装置的洁净室内设置多个基板处理装置，经由网络管理各基板处理装置(例如参照专利文献2、3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-103356号公报

专利文献2：日本特开2008-21835号公报

专利文献3：日本特开2015-115540号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明提供用于对基板处理装置实现高效的管理的技术。

用于解决问题的方案

根据一个实施例，提供一种技术，其具备：处理室，其对基板进行处理；；位置信息取得部，其取得上述处理室的位置信息；存储部，其保存上述位置信息；信息控制部，其将上述位置信息取得部取得的上述位置信息保存在上述存储部中，并且输出上述存储部所保存的上述位置信息。

发明效果

根据本发明的技术，能够对基板处理装置进行高效的管理。

附图说明

图1是示意性地表示本发明的一个实施方式的基板处理系统的概要结构例子的图像图。

图2是示意性地表示本发明的一个实施方式的基板处理装置的结构例子的横截面图。

图3是示意性地表示本发明的一个实施方式的基板处理装置的结构例子的纵截面图，是表示图2中的α-α’截面的图。

图4是示意性地表示本发明的一个实施方式的基板处理装置所具备的反应器(reactor，处理室)的结构例子的说明图。

图5是示意性地表示本发明的一个实施方式的基板处理装置所具备的控制器的结构例子的框图。

图6是表示本发明的一个实施方式的基板处理装置所进行的基板处理工序的概要的流程图。

图7是表示本发明的一个实施方式的基板处理装置所进行的成膜工序的基本步骤的流程图。

图8是示意性地表示本发明的一个实施方式的群管理装置的结构例子的框图。

图9是表示本发明的一个实施方式的基板处理系统所进行的管理方法的一个具体例子的步骤的流程图。

具体实施方式

<发明的一个实施方式>

以下，参照附图说明本发明的一个实施方式。

(1)基板处理装置的管理状况

首先，说明在半导体装置的制造工序中所使用的基板处理装置的管理相关的状况。近年来，在半导体装置的制造工序中，存在以下这样的状况。