[发明专利]超硬半导体性非晶碳块体材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910085279.0 申请日: 2019-01-29
公开(公告)号: CN109821480B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 赵智胜;张爽爽;罗坤;高宇飞;何巨龙;于栋利;胡文涛;田永君;徐波 申请(专利权)人: 燕山大学
主分类号: B01J3/06 分类号: B01J3/06
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人: 刘阳
地址: 066004 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 半导体 性非晶碳 块体 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种超硬半导体性非晶碳块体材料制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将C60富勒烯预制成柱状坯体;

(2)将得到的柱状坯体装入六方氮化硼坩埚中,再装入高温高压组装块中;

(3)将组装块置于高温高压合成设备中进行高温高压处理,所述高温高压处理的温度为500-2000℃,压力为8-25GPa,保温时间为10-120分钟;

(4)处理完成后得到超硬半导体性非晶碳块体材料。

2.根据权利要求1所述的超硬半导体性非晶碳块体材料的制备方法,其特征在于,所述C60富勒烯为高纯粉末。

3.根据权利要求1所述的超硬半导体性非晶碳块体材料的制备方法,其特征在于,所述柱状坯体为直径1.2或2mm、高2.3mm的圆柱坯体。

4.根据权利要求1所述的超硬半导体性非晶碳块体材料的制备方法,其特征在于,所述高温高压组装块为标准8/3的高温高压组装块或标准10/5的高温高压组装块。

5.根据权利要求1所述的超硬半导体性非晶碳块体材料的制备方法,其特征在于,所述高温高压合成设备为T25超高压温合成装置。

6.根据权利要求1所述的超硬半导体性非晶碳块体材料的制备方法,其特征在于,所述高温高压处理的温度为1000-1200℃,压力为25GPa,保温时间为120分钟。

7.根据权利要求1所述的超硬半导体性非晶碳块体材料制备方法,其特征在于,所述超硬半导体性非晶碳块体材料的直径为1-1.9mm、高为1.2-1.7mm。

8.一种超硬半导体性非晶碳块体材料,其特征在于,根据权利要求1~7任意一项所述制备方法制备得到。

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