[发明专利]曝光装置及曝光方法

说明书

本发明提供一种曝光装置及曝光方法。所述曝光装置包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率，通过设置曲面的基板载台使得基板置于载台上后产生与光罩相同的形变，从而补偿因光罩形变造成的曝光偏差，提升曝光的均一性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光装置及曝光方法。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

通常液晶显示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶体管基板(TFT，ThinFilm Transistor)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。

在液晶显示器的Array制程等平板显示器的制程过程中，经常会用到曝光制程。通常曝光制程的具体过程为，先在涂有光刻胶的基板上方放置光罩，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出UV紫外光线，将光罩上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于光罩的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分，从而使光刻胶形成所需的图形。

随着市场对显示需求的升级，显示面板的尺寸越来越大，为了满足大尺寸显示，基板面积及光罩面积也随之增大，如图1所示，光罩1在曝光机内是通过四周的光罩框2的吸附来实现位置的固定，因而随着光罩面积的增大，光罩1会产生更大的形变，在曝光过程中会由于形变产生的折射光而造成曝光均一性下降，具体为接近式曝光机中，曝光量条件不变前提下，光罩与基板的距离越大，基板上图形的关键尺寸(CD)越大，因而由于光罩2形变导致的光罩2的中心点到基板3的距离为光罩2边缘的点到基板3的距离的不同，会造成基板3的曝光不均，对制程产生不良影响。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光装置，能够补偿光罩的形变，提升曝光均匀性。

本发明的目的还在于提供一种曝光方法，能够补偿光罩的形变，提升曝光均匀性。

为实现上述目的，本发明提供了一种曝光装置，包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；

所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率。

所述基板载台上设有吸附模块，所述吸附模块能够吸附置于基板载台上的基板，使得所述基板与所述基板载台贴合。

所述基板载台为矩形，所述基板载台的长度及宽度的范围均为700至1500mm。

所述基板载台中心的最低点与基板载台边缘的最高点的高度差为4～10μm。

所述基板载台的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。