[发明专利]发光结构、发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910074093.5 申请日: 2019-01-25
公开(公告)号: CN109786517B 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 吴臣臣;刘晓那;陈玉琼;王孟杰;袁帅;郑子易;张瑞;孙玉家 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/02;H01L33/10;H01L33/50
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张京波;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 结构 发光二极管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种发光结构,其特征在于,包括设置在基底第一表面用于发射第一波长光线的第一发光子结构和设置在基底第二表面用于发射第二波长光线的第二发光子结构,所述第一表面和第二表面是所述基底相互背离的表面;

所述第一发光子结构包括在所述基底的第一表面上依次叠设的第一反射层、第一n型接触层、第一多量子阱、第一p型接触层,以及设置在所述第一n型接触层上的第一n接触电极和设置在所述第一p型接触层上的第一p接触电极,所述第一多量子阱用于发射所述第一波长光线;所述第二发光子结构包括在所述基底的第二表面上依次叠设的第二反射层、第二n型接触层、第二多量子阱、第二p型接触层,以及设置在所述第二n型接触层上的第二n接触电极和设置在所述第二p型接触层上的第二p接触电极,所述第二多量子阱用于发射所述第二波长光线。

2.根据权利要求1所述的发光结构,其特征在于,所述第一反射层包括设置在所述基底的第一表面上的第一缓冲层和设置在所述第一缓冲层上的第一分布式布拉格反射镜层;所述第二反射层包括设置在所述基底的第二表面上的第二缓冲层和设置在所述第二缓冲层上的第二分布式布拉格反射镜层。

3.根据权利要求1或2所述的发光结构,其特征在于,所述第一波长光线包括第一颜色光,所述第二波长光线包括第一颜色光互补光。

4.一种发光二极管,其特征在于,包括如权利要求1~3任一所述的发光结构,还包括反射杯和透明出射层,所述反射杯用于收容所述发光结构,所述透明出射层填充所述反射杯,并形成出射混合光的出光面。

5.根据权利要求4所述的发光二极管,其特征在于,所述反射杯包括杯底和环形杯壁,所述环形杯壁设置在所述杯底上,形成收容所述发光结构的收容腔;所述发光结构设置在所述杯底上,所述第一发光子结构和第二发光子结构的出光方向朝向所述反射杯的环形杯壁,所述杯底和环形杯壁上设置有反光层。

6.根据权利要求5所述的发光二极管,其特征在于,在垂直于杯底的平面,所述反射杯的截面形状为倒梯形,在平行于杯底的平面,反射杯的截面形状为圆形、椭圆形或多边形。

7.根据权利要求6所述的发光二极管,其特征在于,所述倒梯形的两侧边为直线、弧线或折线。

8.根据权利要求4所述的发光二极管,其特征在于,所述出光面的形状为凸出所述反射杯的弧线形。

9.根据权利要求5所述的发光二极管,其特征在于,在垂直于杯底的平面,所述基底的截面形状包括矩形或梯形。

10.一种发光二极管的制备方法,其特征在于,包括:

制备发光结构,所述发光结构包括形成在基底第一表面用于发射第一波长光线的第一发光子结构和形成在基底第二表面用于发射第二波长光线的第二发光子结构,所述第一表面和第二表面是所述基底相互背离的表面;所述第一发光子结构包括在所述基底的第一表面上依次叠设的第一反射层、第一n型接触层、第一多量子阱、第一p型接触层,以及设置在所述第一n型接触层上的第一n接触电极和设置在所述第一p型接触层上的第一p接触电极,所述第一多量子阱用于发射所述第一波长光线;所述第二发光子结构包括在所述基底的第二表面上依次叠设的第二反射层、第二n型接触层、第二多量子阱、第二p型接触层,以及设置在所述第二n型接触层上的第二n接触电极和设置在所述第二p型接触层上的第二p接触电极,所述第二多量子阱用于发射所述第二波长光线;

将所述发光结构设置在反射杯内;

透明出射层填充所述反射杯,并形成出射混合光的出光面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910074093.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top