[发明专利]一种抗划伤除污光催化玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种抗划伤除污光催化玻璃的制备方法，包括玻璃基板和依次设置于玻璃基板表面的缓冲层和面层，其特征在于：所述缓冲层从内至外依序包括SiO2层、SiO2+Al2O3层和SiO2+Al2O3+TiO2层；所述面层为Ag掺杂TiO2及Al2O3层；

所述制备方法包括以下步骤：

1）对玻璃基板进行表面处理；

2）在玻璃基板上制备SiO₂层，用硅做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，O2流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；

3）在SiO₂层表面上制备SiO₂+Al₂O₃层，其中SiO₂与Al₂O₃的质量比为50wt%：50wt%，用硅、铝做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，O₂流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；

4）在SiO₂+Al₂O₃层表面上制备SiO₂+Al₂O₃+TiO₂层，其中SiO₂与Al₂O₃与TiO₂的质量比为20wt%：50wt%：30wt%，用硅、铝、钛做靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，硅靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，钛靶电流2-4A，O₂流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min；

5）在SiO₂+Al₂O₃+TiO₂层表面上制备Ag掺杂TiO₂及Al₂O₃层，以铝、银及钛为靶材，控制气压为0.3-1Pa，工作偏压40-120V，溅射功率100-300W，钛靶电流2-4A，铝靶电流2-4A，银靶电流0.5-1A，O₂流量10-30sccm，氩气流量为60-120mL/min，溅射时间为10-30min。

2.根据权利要求1所述的一种抗划伤除污光催化玻璃的制备方法，其特征在于：所述缓冲层的厚度为10-50nm。

3.根据权利要求1所述的一种抗划伤除污光催化玻璃的制备方法，其特征在于：所述面层的厚度为100-200nm。

4.根据权利要求3所述的一种抗划伤除污光催化玻璃的制备方法，其特征在于：步骤1)中对玻璃基板进行表面处理的步骤：将玻璃基板先用丙酮为清洗剂进行超声清洗，然后以无水乙醇为清洗剂进行超声清洗，最后以去离子水为清洗剂进行超声清洗，吹干后得到表面洁净的玻璃基板。