[发明专利]一种用于原子层沉积的夹具及生产沉积薄膜的方法有效
申请号: | 201910066631.6 | 申请日: | 2019-01-24 |
公开(公告)号: | CN109536926B | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 夏洋;陈波;赵丽丽;冯嘉恒;高张昀 | 申请(专利权)人: | 嘉兴科民电子设备技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 314006 浙江省嘉兴市南湖*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 原子 沉积 夹具 生产 薄膜 方法 | ||
1.一种用于原子层沉积的夹具,其特征在于,包括底板(8)、盖板(1)、第一滤网(6)、第二滤网(7)和至少一个通道手柄(2),其中:
所述盖板(1)可拆卸地设置在所述底板(8)上,所述盖板(1)和所述底板(8)上均设置有通孔,两个所述通孔相对设置;
所述第一滤网(6)设置在所述盖板(1)的通孔内,所述第二滤网(7)设置在所述底板(8)的通孔内,所述第一滤网(6)和第二滤网(7)相间隔;
所述底板(8)上设置有气体出口,所述气体出口设置在所述第二滤网(7)的下方,所述通道手柄(2)固定在所述底板(8)上,所述通道手柄(2)内设置有气体通道(3),所述气体通道(3)的一端连通有至少一个接口环(4),所述气体通道(3)的另一端和所述气体出口相连通。
2.根据权利要求1所述的用于原子层沉积的夹具,其特征在于,还包括芯环(5),所述芯环(5)设置在所述底板(8)和所述盖板(1)之间。
3.根据权利要求2所述的用于原子层沉积的夹具,其特征在于,所述底板(8)和所述盖板(1)均包括外环和内环,所述外环设置在所述内环外侧,所述内环中部为所述通孔,所述内环厚度小于所述外环的厚度,所述芯环(5)设置在所述底板(8)的内环和所述盖板(1)的内环之间,所述芯环(5)同时与两个所述外环可拆卸连接,所述第二滤网(7)设置在所述底板(8)的内环与所述芯环(5)之间,所述第一滤网(6)设置在所述盖板(1)的内环与所述芯环(5)之间。
4.根据权利要求1所述的用于原子层沉积的夹具,其特征在于,所述第一滤网(6)和所述第二滤网(7)的孔眼数目为200目~3000目。
5.一种生产沉积薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:
将粉末样品装入权利要求1-4任一项所述夹具中的第一滤网和第二滤网之间;
将所述夹具的通道手柄与原子层沉积设备的出源孔相连通;
向夹具喷射前驱体源并通入载气,反应得到沉积薄膜。
6.根据权利要求5所述的生产沉积薄膜的方法,其特征在于,所述向夹具喷射前驱体源具体包括:
控制与各个通道手柄相连通的出源孔间歇性喷射;
控制与一个通道手柄上的各个接口环相连通的出源孔间歇性喷射。
7.根据权利要求5所述的生产沉积薄膜的方法,其特征在于,所述通入载气具体包括:
在第一滤网上方进行抽气,使第一滤网上方气压下降;
在第二滤网下方进行充气,气体带动前驱体源向上运动进入第一滤网和第二滤网之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴科民电子设备技术有限公司,未经嘉兴科民电子设备技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910066631.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的