[发明专利]一种低重稀土钕铁硼材料及其制备方法

权利要求书

1.一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，由如下组份按照质量百分比组成：

Pr+Nd 25~30%

Dy 0.2~5%

Zr 0.05~0.1%

B 0.98~1%

Co 0.1~1%

Ga 0.1~0.3%

Al 0.1~0.4%

Cu 0.1~0.3%

Tb 0~0.8%

Fe 余量

上述低重稀土钕铁硼材料，按照如下步骤制成：

(1)铸片

按照上述配方设计，制成主相合金和副相合金，并分别置入到铸片设备中进行铸片结晶，控制铸片结晶厚度在0.1~0.45mm；

(2)氢碎处理

将主相铸片和副相铸片按照比例94~96%和4~6%混合后先进行氢碎处理;

(3)气流磨制粉

然后利用气流磨将上述氢碎后的铸片磨成粉体,粒度控制在D50:4.9～5.3μm，SMD：2.95～3.15μm,得到磁粉;

成型/静压

将步骤(3)中的磁粉经过成型压机生坯成型，真空封装，再经过等静压、油压后，制得生坯；

（5）烧结

将步骤（4）中制得的生坯经过烧结炉处理，烧结温度控制在1040～1080℃，一级回火温度为880～1000℃，二级回火温度为480～530℃，使其成型密度控制在7.5～7.6的毛坯材料，并使脱气完全，收缩和晶粒长大均匀，低重稀土钕铁硼材料。

2.如权利要求1所述的一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，制备磁牌号N52由如下组份按质量百分比组成：Pr+Nd 28~30%、Dy 0.2~0.5%、Zr 0.05~0.1%、B 0.98~1%、Co 0.1~0.3%、Ga 0.1~0.3%、Al 0.1~0.3%、Cu 0.1~0.3%及Fe 余量。

3.如权利要求2所述的一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，制备磁牌号N52步骤中，步骤（2）选择主相铸片和副相铸片比例分别为95.5%和4.5%，步骤（3）为无氧研磨，步骤（5）中选择烧结温度为1040～1060℃，一级回火温度为880～1000℃，二级回火温度为500～530℃。

4.如权利要求1所述的一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，制备磁牌号50M由如下组份按质量百分比组成：Pr+Nd 28~30%、Dy 0.5~1.5%、Zr 0.08~0.1%、B 0.98~1%、Co 0.1~0.3%、Ga 0.1~0.3%、Al 0.1~0.3%、Cu 0.1~0.3%及Fe 余量。

5.如权利要求1所述的一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，制备磁牌号48H由如下组份按质量百分比组成：Pr+Nd 28~30%、Dy 1~2%、Zr 0.08~0.1%、B 0.98~1%、Co 0.1~0.3%、Ga 0.1~0.3%、Al 0.2~0.4%、Cu 0.1~0.3%及Fe 余量。

6.如权利要求1所述的一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，制备磁牌号45SH由如下组份按质量百分比组成：Pr+Nd 26~28%、Dy 2~3%、Zr 0.05~0.1%、B 0.98~1%、Co 0.6~1%、Ga0.1~0.3%、Al 0.2~0.4%、Cu 0.1~0.3%及Fe 余量。

7.如权利要求1所述的一种低重稀土钕铁硼材料，其特征在于，制备磁牌号42UH由如下组份按质量百分比组成：Pr+Nd 25~27%、Dy 4~5%、Zr 0.08~0.1%、B 0.98~1%、Co 0.1~0.3%、Ga 0.1~0.3%、Al 0.2~0.4%、Cu 0.1~0.3%、Tb 0.5~0.8%及Fe 余量。