[发明专利]一种OLED显示面板的制作方法有效
| 申请号: | 201910060079.X | 申请日: | 2019-01-22 |
| 公开(公告)号: | CN109817826B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
| 发明(设计)人: | 刘华龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
| 地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 oled 显示 面板 制作方法 | ||
本申请公开了一种OLED显示面板的制作方法,包括:提供衬底基板;在所述衬底基板上形成阳极层;在所述阳极层上覆盖保护层;在所述保护层和所述衬底基板上形成像素界定层;所述像素界定层在所述保护层上围成像素开口;对所述像素开口中的保护层进行刻蚀,以裸露所述阳极层。本制作方法避免了像素开口中的阳极层上有像素界定层残留物,使得在打印有机功能层的墨水材料时墨水材料可以在像素开口中的阳极层上完全铺展开,避免了OLED显示面板出现发光不均、亮点或暗点,提高了OLED显示面板的显示效果及性能,延长了OLED显示面板的使用寿命。
技术领域
本申请涉及显示面板技术领域,尤其涉及一种OLED显示面板的制作方法。
背景技术
有机发光器件OLED(Organic Light Emitting Diode)以其良好的自发光特性、高的对比度、快速响应等优势,在显示领域、照明领域以及智能穿戴领域等都得到了广泛的应用。
制备OLED器件的主要方法有蒸镀法和打印法两种,现在利用全蒸镀方法制备大中小尺寸的OLED显示器件的技术相对于打印技术来说已相当成熟,目前已经用于商业化生产,但全蒸镀技术存在材料利用率低,难用于制备高分辨率的器件的问题。而打印技术制备OLED器件的材料利用率高达90%以上,其制备OLED器件的成本较全蒸镀技术低17%左右,且打印过程中无需掩模板,可用于高分辨率OLED显示器件的制备。
打印技术的制程包括在ITO(Indium Tin Oxides,ITO,氧化铟锡,透明导电薄膜)阳极层图形化后制备像素界定层,形成像素开口,ITO的边缘部分与像素界定层重合。在打印过程中发现,ITO阳极层的表面有部分有机功能墨水材料铺展不开,且有些像素内有微米级的异物颗粒,造成干燥后的有机功能膜层出现边缘且异物处无有机功能膜覆盖,从而引起OLED器件在发光时,出现发光不均、亮点或暗点的mura(显示不均)问题,严重影响了OLED显示面板的显示效果及使用寿命。
发明内容
本申请实施例提供一种OLED显示面板的制作方法,以解决阳极层上打印有机功能膜时墨水材料铺展不开而影响OLED显示面板的显示效果及使用寿命的问题。
本申请实施例提供了一种显示面板的制作方法,包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上形成阳极层;
在所述阳极层上覆盖保护层;
在所述保护层和所述衬底基板上形成像素界定层;所述像素界定层在所述保护层上围成像素开口;
对所述像素开口中的保护层进行刻蚀,以裸露所述阳极层。
进一步的,所述对所述像素开口中的保护层进行刻蚀,以裸露所述阳极层,包括:
采用干法刻蚀或湿法刻蚀的方式去除所述像素开口中的保护层,以裸露所述阳极层。
进一步的,所述对所述像素开口中的保护层进行刻蚀,以裸露所述阳极层,包括:
采用干法刻蚀或湿法刻蚀的方式对所述像素开口中的保护层进行图形化处理,以裸露预设形状的阳极层。
进一步的,所述阳极层裸露的形状包括方形、圆形、平行四边形或五角星形。
进一步的,所述保护层的厚度为1至200纳米。
进一步的,所述阳极层的材料为亲水性的导电材料,所述像素界定层的材料为疏水性的材料,所述保护层的材料为亲水性的材料。
进一步的,所述保护层为有机物薄膜,所述有机物薄膜包括亲水性的光阻薄膜。
进一步的,所述保护层为无机物薄膜,所述无机物薄膜包括二氧化硅薄膜或氮化硅薄膜。
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