[发明专利]一种组合膜法制备超高纯硫酸的方法在审

专利信息
申请号: 201910052512.5 申请日: 2019-01-21
公开(公告)号: CN109485022A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 金炳生;赵俊男;高小云;刘兵;胡建康 申请(专利权)人: 苏州晶瑞化学股份有限公司
主分类号: C01B17/90 分类号: C01B17/90
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 王丽
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 硫酸 超高纯 三氧化硫气体 微孔膜滤芯 硫酸溶液 组合膜 精滤 两级 去除 过滤 汽化 还原性杂质 生产成本低 微膜过滤器 过滤器 硫酸产品 三氧化硫 超纯水 超微膜 高品质 膜吸收 透过膜 微孔膜 吸收器 氧化酸 泵入 吸收 制备 生产
【说明书】:

发明公开了一种组合膜法制备超高纯硫酸的方法,该方法以三氧化硫为原料,包括依次且连续进行的如下步骤:(1)汽化,得到三氧化硫气体;(2)氧化酸洗,去除还原性杂质;(3)膜吸收器吸收,三氧化硫气体透过膜吸收器的微孔膜被超纯水吸收,得到硫酸;(4)两级微孔膜滤芯过滤,将硫酸溶液泵入两级微孔膜滤芯中过滤;(5)超微膜过滤器精滤:将硫酸溶液泵入超微膜过滤器中进行精滤,得到超高纯硫酸。本发明能够高效去除制备的硫酸中的杂质,制得高品质的超高纯硫酸产品,且生产成本低,可批量生产,具有显著的经济效益。

技术领域

本发明涉及超纯化学品制备技术领域,具体涉及一种组合膜法制备超高纯硫酸的方法。

背景技术

超高纯硫酸又称电子级硫酸,属于超净高纯试剂,其大量用于集成电路的清洗和蚀刻。随着IC行业的蓬勃发展,工艺技术水平逐步提升,对电子化学品的质量要求越来越苛刻。电子级硫酸的纯度和洁净度对电子元件的成品率、电性能及可靠性有着重要的影响。

目前,超高纯硫酸通常以工业级硫酸作为原料精馏过滤精制而成。但用于微电子行业的超高纯硫酸对其中金属杂质含量、阴离子含量的要求已达ppb限量,甚至已达ppt限量,对产品中尘埃颗粒的限量也有明确的要求,现有的生产工艺已经无法满足要求。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明的目的在于提供一种组合膜法制备超高纯硫酸的方法,能够高效去除制备的硫酸中的杂质,制得高品质的超高纯硫酸产品,且生产成本低,可批量生产,具有显著的经济效益。

为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:一种组合膜法制备超高纯硫酸的方法,该方法以三氧化硫为原料,包括依次且连续进行的如下步骤:

(1)汽化:将工业三氧化硫通入盘管蒸发器中汽化,得到三氧化硫气体;

(2)氧化酸洗:将步骤(1)得到的三氧化硫气体通入装有发烟硫酸的酸洗池中进行酸洗,同时向上述酸洗池中加入氧化剂,去除还原性杂质;

(3)膜吸收器吸收:将经过步骤(2)处理后的三氧化硫气体通入膜吸收器中,透过膜吸收器的微孔膜被电阻率为18MΩ.cm的超纯水吸收,得到硫酸,并被冷却,控制冷却后的硫酸温度为50-60℃;

(4)两级微孔膜滤芯过滤:将步骤(3)得到的硫酸溶液泵入两级微孔膜滤芯中过滤,去掉颗粒物质;

(5)超微膜过滤器精滤:用高压泵将经过步骤(4)处理的硫酸溶液泵入超微膜过滤器中进行精滤,得到超高纯硫酸。

进一步的,步骤(1)中,所述盘管蒸发器采用水蒸汽为热源,所述蒸汽压力为0.20-0.25Mpa。

进一步的,步骤(2)中,所述氧化剂为双氧水、臭氧中的一种,氧化剂的添加量为三氧化硫重量的0.1-0.5wt%,发烟硫酸的含量为20-22wt%。

进一步的,步骤(3)中,所述膜吸收器内的微孔膜为孔径为50-100nm的聚四氟乙烯微孔膜,膜吸收器的吸收压力为0-0.1Mpa。

进一步的,所述膜吸收器的内衬为聚四氟乙烯材质。

进一步的,步骤(4)中,所述两级微孔膜滤芯为聚四氟乙烯复合膜滤芯,其过滤压力为0.1-0.2Mpa,该聚四氟乙烯复合膜滤芯是由孔径为0.1um的聚四氟乙烯微孔滤膜和孔径为0.05um的聚四氟乙烯微孔滤膜复合而成。

进一步的,步骤(5)中,超微膜过滤器的精滤膜为孔径1-20nm的中空纤维超滤膜,精滤压力为0.1-0.5Mpa。

进一步的,所述中空纤维超滤膜为聚氯乙烯超滤膜、聚偏氯乙烯超滤膜中的一种。

进一步的,步骤(1)中,工业三氧化硫通入盘管蒸发器的流速为50-60L/h。

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