[发明专利]微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置在审

专利信息
申请号: 201910046612.7 申请日: 2019-01-17
公开(公告)号: CN109616520A 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 李海欧;李炎;胡蕾琪;刘赫;郭光灿;郭国平 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01L29/775 分类号: H01L29/775;H01L21/336;B82Y10/00;H01P7/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张宇园
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子点 纳米线 自组织 锗硅 耦合 微波谐振腔 基片结构 量子 超导微波 芯片 量子计算机 谐振腔结构 电极结构 结构耦合 量子数据 可扩展 谐振腔 源电极 耦合的 总线 长程 构建 制备 微波 媒介
【权利要求书】:

1.一种微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,包括:

基片结构;

至少两个自组织锗硅纳米线量子点电极结构,制备在所述基片结构上;

以及微波谐振腔结构,设置在所述基片结构上,并与所述自组织锗硅纳米线量子点源电极结构耦合。

2.根据权利要求1所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述基片结构包括:

硅衬底;

硅缓冲层,形成于所述硅衬底上;

锗层,生长于所述硅缓冲层上;

以及硅包覆层和所述硅包覆层自然氧化形成的二氧化硅层,生长在所述锗层上作为外壳;所述锗层与所述硅包覆层实现纳米线锗内核的制备。

3.根据权利要求2所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述基片结构上形成有自组织锗硅纳米线,包括:

所述纳米线锗内核,形成于所述基片结构的锗层之中;

所述纳米线硅盖帽层,形成于所述基片结构的硅包覆层之中;

以及纳米线二氧化硅保护层,形成于所述硅包覆层中;

所述纳米线锗内核、纳米线硅盖帽层与纳米线二氧化硅保护层形成自组织锗硅纳米线。

4.根据权利要求3所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于:

所述自组织锗硅纳米线,形成于所述基片结构上;

源电极和漏电极,设置与所述自组织锗硅纳米线相连;

栅极电极,位于所述锗硅纳米线顶部,通过一层绝缘层与所述锗硅纳米线隔绝;

所述自组织锗硅纳米线、源电极、漏电极和栅极电极,以及所述栅极电极形成的量子点构成自组织锗硅纳米线量子点结构。

5.根据权利要求4所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述各个自组织锗硅纳米线量子点电极结构包括:

所述自组织锗硅纳米线量子点结构,设置于所述基片结构上;

源大电极,设置于所述基片结构上,并连接所述自组织锗硅纳米线量子点结构的源电极;

漏大电极,设置于所述基片结构上,并连接所述自组织锗硅纳米线量子点结构的漏电极;

以及栅极大电极,设置于所述基片结构上,并连接所述自组织锗硅纳米线量子点结构的栅极电极。

6.根据权利要求1所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述微波谐振腔结构包括:

平行放置的两条微波传输线,所述微波传输线为条带状,设置在所述基片结构上,与所述自组织锗硅纳米线量子点源电极结构耦合;

微波输入输出电板,设置于所述基片结构上,实现微波信号的输入和输出;

齿耦合电容,所述齿耦合电容为平行电极形成的电容,设置于所述基片结构上;

以及直流电压接入电极,设置于所述基片结构上,并与所述微波传输线的中间部分相连。

7.根据权利要求6所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述微波传输线通过所述齿耦合电容和所述微波输入输出电板相连。

8.根据权利要求1或6所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述微波谐振腔中的微波传输线的任意一端与所述自组织锗硅纳米线量子点电极结构的源大电极相连。

9.根据权利要求6所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于:

所述两条微波传输线的长度为所要测量的微波波长的一半,所述两条微波传输线之间形成稳定的电磁场,所述两条微波传输线两端为微波谐振腔的微波波腹位置,所述两条微波传输线中间为微波谐振腔的微波波节位置;

所述自组织锗硅纳米线量子点电极结构设置于所述微波谐振腔的微波波腹处;

所述直流电压接入电极设置于所述微波谐振腔的微波波节处。

10.根据权利要求6所述的微波谐振腔耦合自组织锗硅纳米线量子点装置,其特征在于,所述微波谐振腔的材质为铝,厚度为100-150nm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学,未经中国科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910046612.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top