[发明专利]一种具有可见光响应的rGO/黑色氯氧化铋-铋-三氧化二铋异质结光催化剂的制备方法在审
申请号: | 201910045302.3 | 申请日: | 2019-01-17 |
公开(公告)号: | CN109772373A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 邓芳;张倩;谢春娟;李慧;夏佰慧 | 申请(专利权)人: | 南昌航空大学 |
主分类号: | B01J27/06 | 分类号: | B01J27/06;B01J37/16 |
代理公司: | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人: | 刘凌峰 |
地址: | 330000 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 异质结光催化剂 三氧化二铋 氯氧化铋 制备 去离子水洗涤 可见光响应 复合物 灰白色固体产物 强光 光催化降解 前驱体溶液 有机污染物 氨水调节 持续搅拌 光催化剂 还原铁粉 再生能力 混匀 禁带 氯源 驱体 水中 铋源 盐酸 离子 过量 溶解 吸收 | ||
本发明公开了一种具有可见光响应的rGO/黑色氯氧化铋‑铋‑三氧化二铋异质结光催化剂的制备方法,方法包括1)将氯源在GO溶液中充分溶解,形成前驱体溶液,后再将铋源溶于此前驱体溶液中,用氨水调节PH,得到灰白色固体产物,将此产物用去离子水洗涤为中性,60℃下干燥,得BiOCl/GO复合物;2)取BiOCl/GO复合物3.0g溶于150ml去离子水中,待混匀后加入过量还原铁粉,一段时间后加入20ml盐酸,室温下持续搅拌8h,反应完全后先将剩余Fe粉除去,再将所得产物用去离子水洗涤为中性,80℃下干燥,得rGO/黑色氯氧化铋‑铋‑三氧化二铋异质结光催化剂。本发明制备的光催化剂化学性质稳定、禁带宽度窄、有较强光吸收、较好光催化降解有机污染物能力,以及较高再生能力。
技术领域
本发明涉及催化剂制备方法技术领域,具体涉及一种具有可见光响应的rGO/黑色氯氧化铋-铋-三氧化二铋异质结光催化剂的制备方法。
背景技术
当今,社会经济高速发展,随之而来的环境问题已是不容忽视,水污染作为环境污染的主要方面之一,受到各界广大的关注,而工业废水的排放则是水污染的主要原因。长期饮用受污染的水会对人体健康构成较大潜在风险,甚至会致癌,致畸和致突变,因此,迫切需要环境工作者开发一些高效的技术来处理实际工业废水,使其达到国家所规定的排放标准。
半导体光催化作为一种很有前景的高级氧化技术,具有反应条件温和、制备工艺简便、能耗低、反应速度快等优点,可高效降解多种有机污染物,甚至还可将其转化为CO2、H2O 等无机小分子物质。因此,利用光催化技术处理工业废水对缓和环境问题、维护生态平衡、实现可持续发展具有重大意义。
传统的光催化剂如TiO2和ZnO具有宽带隙,只在紫外(UV)区域有活性,光生电子和空穴的复合速率快,量子效率低,限制了它们在废水处理中的实际应用;而后研发的BiOCl光催化剂因其独特的光学和电学性质,无毒性,高耐腐蚀性,以及比TiO2在降解有机物中更高的紫外光光催化活性而受到极大的关注。但是与TiO2类似,BiOCl具有3.4eV的宽带隙,仅用紫外光活化,导致可见光光催化活性差。
基于BiOCl纳米粒子带隙能较大仅对紫外光响应的缺点,我们采用表面缺陷改进的方法,同时引进与其带隙结构匹配的Bi2O3及还原石墨烯去改善其光催化性能。所得的产物具有良好的光敏性、稳定性和抗氧化性,且可见光响应强、重复利用性好,在光催化降解实际工业废水中的有机物质、光解水、光电转换等方面有着显著的效果。
目前,研究人员通过Fe粉还原合成出了黑色BiOCl,也利用Fe粉将氧化石墨烯还原制得还原石墨烯,但是依旧存在对可见光响应差等问题。本发明涉及一种具有可见光响应的石墨烯/blackBiOCl-Bi-Bi2O3异质结光催化剂的制备方法,该光催化剂具有高稳定性、高吸附性、高重复利用性等优点,在可见光下具有较好的光催化性能。
发明内容
本发明所要解决的问题是:提供一种具有可见光响应的rGO/黑色氯氧化铋-铋-三氧化二铋异质结光催化剂的制备,制备出来的光催化剂的化学性质稳定、禁带宽度窄、具有较强的光吸收、较好的光催化降解有机污染物的能力,并具有着较高的再生能力。
本发明为解决上述问题所提供的技术方案为:一种具有可见光响应的rGO/黑色氯氧化铋 -铋-三氧化二铋异质结光催化剂的制备,所述制备方法包括以下步骤,
1)将氯源在GO溶液中充分溶解,形成前驱体溶液,然后再将铋源完全溶解于此前驱体溶液中,用氨水溶液调节PH,在室温下持续搅拌一段时间,最终得到灰白色固体产物,将灰白色固体产物用去离子水洗涤为中性,然后在60℃下干燥,得BiOCl/GO复合物;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌航空大学,未经南昌航空大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910045302.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。