[发明专利]阵列基板以及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

公共走线，包括：

镂空区，包括第一镂空部以及第二镂空部，所述第一镂空部用于放置导电胶，所述第二镂空部包围所述第一镂空部；

实心区，与所述第一镂空部之间具有第二镂空部，连接所述第二镂空部，并在与所述第二镂空部相连的一侧设有凹槽，所述凹槽与所述第一镂空部相对设置。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述镂空区还包括附增镂空部，所述附增镂空部位于所述凹槽内。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的中心轴线与所述第一镂空部的中心轴线重合，所述凹槽朝向所述第一镂空部的方向为第一方向，与所述第一方向垂直的方向为第二方向，所述凹槽在所述第二方向上的长度大于所述第一镂空部在所述第二方向上的长度。

4.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的底壁与所述第一镂空部的距离不小于300μm。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述导电胶包括多个导电粒子，所述附增镂空部包括多条横纵交叉设置的附增走线，同一方向的所述附增走线之间的距离大于所述导电粒子的直径。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，同一方向的所述附增走线之间的距离为15μm～25μm。

7.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述导电胶包括多个导电粒子，所述附增镂空部包括多条横纵交叉设置的附增走线，所述附增走线的线宽小于所述导电粒子的直径。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述附增走线的线宽为3μm～5μm。

9.一种阵列基板，其特征在于，包括：

公共走线，包括：

镂空区，包括第一镂空部、第二镂空部以及附增镂空部，所述第一镂空部用于放置导电胶，所述导电胶包括多个导电粒子，所述第二镂空部包围所述第一镂空部；

实心区，与所述第一镂空部之间具有第二镂空部，连接所述第二镂空部，并在与所述第二镂空部相连的一侧设有凹槽，所述凹槽与所述第一镂空部相对设置；

所述附增镂空部位于所述凹槽内，并且，所述附增镂空部包括多条横纵交叉设置的附增走线，同一方向的所述附增走线之间的距离大于所述导电粒子的直径，所述附增走线的线宽小于所述导电粒子的直径。

10.一种显示装置，其特征在于，包括彩膜基板、导电胶以及阵列基板，所述彩膜基板与所述阵列基板通过所述导电胶连接；所述阵列基板包括公共走线；所述公共走线包括镂空区以及实心区；所述镂空区包括第一镂空部以及第二镂空部，所述第一镂空部用于放置导电胶，所述第二镂空部包围所述第一镂空部；所述实心区与所述第一镂空部之间具有第二镂空部，连接所述镂空区并在与所述镂空区相连的一侧设有凹槽，所述凹槽与所述第一镂空部相对设置。