[发明专利]不含镉的量子点、包括其的量子点-聚合物复合物、和显示装置在审

专利信息
申请号: 201910026869.6 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN110028968A 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 章效淑;元裕镐;黄成宇;金智荣;张银珠 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C09K11/88 分类号: C09K11/88;C09K11/02;H01L33/50;H01L51/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金拟粲;王华芹
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子点 聚合物复合物 显示装置 不含镉 半导体纳米晶体 光致发光峰 吸收峰波长 谷部 半峰全宽 方程定义 红色光波 吸收光谱 吸收
【说明书】:

公开不含镉的量子点、包括其的量子点‑聚合物复合物、和显示装置,所述不含镉的量子点包括半导体纳米晶体芯和设置在所述芯上的半导体纳米晶体壳,其中所述量子点不包括镉并且包括铟和锌,所述量子点具有在红色光波长区域中的最大光致发光峰,所述最大光致发光峰的半峰全宽(FWHM)小于或等于约40nm,所述量子点的紫外‑可见吸收光谱在约450nm和第一吸收峰波长之间具有谷部,并且通过以下方程定义的谷深度(VD)大于或等于约0.2:(Abs第一‑Abs)/Abs第一=VD,其中,Abs第一为在第一吸收峰波长处的吸收强度并且Abs为在所述谷部的最低点处的吸收强度。所述显示装置包括所述量子点‑聚合物复合物。

对相关申请的交叉引用

本申请要求2018年1月11日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0003832的优先权和权益,将其全部内容引入本文作为参考。

技术领域

公开量子点、包括其的组合物或量子点-聚合物复合物、和包括该量子点-聚合物复合物的电子装置(例如,显示装置)。

背景技术

量子点(即,纳米尺寸的半导体纳米晶体)可通过控制其尺寸和组成而具有不同的能带隙,并且因此在被(例如,光)激发时可发射多种波长的光。量子点可呈现电致发光和光致发光性质。在化学湿法工艺中,在晶体生长期间使有机材料例如配体、分散剂、或溶剂配位在半导体纳米晶体的表面上以提供具有受控的尺寸和光致发光特性的量子点。量子点的光致发光性质可应用于多种领域中。从环境观点来看,开发能够实现改善的光致发光性质的不含镉的量子点是合乎需要的。

发明内容

一种实施方式提供具有改善的光致发光性质的不含镉的量子点。

另一实施方式提供制造所述不含镉的量子点的方法。

又一实施方式提供包括所述不含镉的量子点的组合物。

再一实施方式提供包括所述不含镉的量子点的量子点-聚合物复合物。

还一实施方式提供包括所述量子点-聚合物复合物的电子装置(例如显示装置)。

在一种实施方式中,不含镉的量子点包括半导体纳米晶体芯和设置在所述芯上的半导体纳米晶体壳并且不包括镉,其中所述量子点包括铟和锌并且具有在红色光波长区域中的最大光致发光峰,所述最大光致发光峰的半峰全宽(FWHM)小于或等于约40nm,所述量子点的紫外-可见吸收光谱在约450nm和第一吸收峰波长之间具有谷部,并且通过以下方程定义的谷深度(VD)大于或等于约0.2:

(Abs第一-Abs)/Abs第一=VD

其中,Abs第一为在所述第一吸收峰波长处的吸收强度并且Abs为在所述谷部的最低点处的吸收强度。

所述红色光波长区域可在大于或等于约600nm且小于或等于约650nm的范围内。

所述最大光致发光峰的半峰全宽(FWHM)可小于或等于约39nm。

所述最大光致发光峰的FWHM可小于或等于约38nm。

所述最大光致发光峰的FWHM可小于或等于约37nm。

所述第一吸收峰的半峰半宽(HWHM)可小于或等于约25nm。

所述不含镉的量子点的量子效率(量子产率)可大于或等于约80%。所述不含镉的量子点的量子效率可大于或等于约85%。所述不含镉的量子点的量子效率可大于或等于约88%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910026869.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top