[发明专利]一种降低塑料薄膜零件截断面反射率的处理方法

说明书

本发明涉及一种降低塑料薄膜零件截断面反射率的处理方法，特别是对光学镜头零部件的处理方法，所述处理方法由如下步骤组成：所述塑料薄膜零件的表面带有耐碱涂层，将所述塑料薄膜零件浸入强碱类溶液中浸泡、腐蚀，使塑料薄膜零件的截断面上形成亚光结构；冲洗塑料薄膜零件，并干燥。采用本发明提供的技术方案，使腐蚀的工艺简单易行；由于在塑料薄膜零件的表面涂敷了耐碱涂层，使得塑料薄膜零件的截断面可浸入式地腐蚀，而不破坏塑料薄膜零件的其他部位，因此降低了操作的精度要求；通过这样的工艺对塑料薄膜零件的截断面进行消光，有效解决现有技术中由于薄膜零件的截断面反光造成的不良影响。

技术领域

本发明属于精密设备制造技术领域，具体涉及一种降低塑料薄膜零件截断面反射率的处理方法。

背景技术

现有技术中对薄膜零件的加工工艺要求历来非常严格，以满足其各自应用场景的需求。这些薄膜零件涵盖各行各业的产品零部件，包括手机及摄像产品的塑料薄膜零件等等。尤其是对于一些薄膜零件，要求其截断面具有较低的反射率。

例如，高像素的手机及带有拍照功能的数码产品的摄像头内部一般需要放置非常薄的光学镜头零部件。现有技术中，对塑料薄膜零件的处理方法，一般采用金属冲压而后通过氧化发黑的方式，以达到全消光的目的。但是，这样的处理方式大大增加了工艺成本。为了克服这一问题，现有技术中存在一种表面带有防静电高遮光涂层的聚对苯二甲酸乙二醇酯材料替代原有的金属材料。

然而，这样做又产生了新的问题：采用上述的塑胶材料冲压成型后，内孔的端面会留下发亮的截断面。这个问题又不能采用传统手段，像金属的发黑处理一样进行消光，以至于最终给拍摄产品带来不良影响，例如，拍摄时产生明显的炫光、光晕等。因此，对于塑料薄膜零件的制造，特别是使用于精密仪器的塑料薄膜零件，采用合理的工艺进行腐蚀处理是亟待解决的问题。

例如，公开号为CN201410833306的中国发明专利公开了一种塑料薄膜零件的处理方法及塑料薄膜零件，其公开了对塑料薄膜零件的处理方法，是通过在塑料薄膜零件本体的表面喷涂防静电的涂层，并且通过弱碱溶液腐蚀通孔的孔壁用以形成亚光结构，并且将塑料薄膜零件置于超声波发生器内超声处理，保证腐蚀效果。然而，采用超声波处理的过程中，由于共振，使得已经腐蚀过的通孔内壁中成块地脱落，影响最终的腐蚀效果。

发明内容

本发明的目的是，提供一种降低薄膜零件截断面反射率的处理方法，对薄膜零件的截断面进行消光，解决现有技术中由于截断面反光造成的不良影响。

为了达到上述技术目的，本发明的技术方案通过如下的方法来实现。

一种降低薄膜零件截断面反射率的处理方法，所述处理方法由如下步骤组成：所述塑料薄膜零件的表面带有耐碱涂层，将所述薄膜零件浸入强碱类溶液中浸泡、腐蚀，使塑料薄膜零件的截断面上形成亚光结构；冲洗薄膜零件，并干燥。在本发明中，所述亚光结构指的是不光滑的表面，使光线照射至亚光结构的表面时发生漫反射，避免反光；而后冲洗薄膜零件，并干燥。

优选地，所述的耐碱涂层是石蜡涂层，其具备较强的粘附能力，因而能够保护材料的表面，不易脱落、性能稳定。

优选地，所述耐碱涂层盖住所述塑料薄膜零件的表面，使截断面裸露。

优选地，所述强碱类溶液为氢氧化钠溶液或氢氧化钾溶液等。

优选地，所述腐蚀的方式，所述强碱类溶液的浓度为15-50％，时间1-48小时，所述强碱类溶液的温度为25-70℃。

优选地，所述塑料薄膜零件的材质为聚酯类或聚酰亚胺类薄膜。例如，所述塑料薄膜材料的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。