[发明专利]两种含有异构体重复单元局部不对称的共轭聚合物及其制备方法

权利要求书

1.两种含有异构体重复单元的局部不对称共轭聚合物，其特征在于，其结构式为：

和

（一）和（二）式中R为≥C₂₀的饱和支化烷基链，Ar为呋喃，噻吩或吡啶，n>0。

2.如权利要求1所述的两种含有异构体重复单元的局部不对称共轭聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a组：单体M1-1，Me₃Sn-TT –SnMe₃，催化剂Pd₂(dba)₃，配体P(o-Tolyl)₃；

b组：单体M1-2，Me₃Sn-T-SnMe₃， 催化剂Pd₂(dba)₃，配体P(o-Tolyl)₃；

分别将a和b两组物质溶于无水有机溶剂中，整个体系在氮气下，加热回流，聚合后，经过索氏提取进行提纯，真空干燥获得红色固体聚合物分别为Polymer（一）和Polymer (二)；所述M1-1和M1-2单体结构为：

M1-1和M1-2中R为≥C₂₀的饱和支化烷基链，Ar为吡啶，呋喃或噻吩。

3.根据权利要求2 所述的两种含有异构体重复单元的局部不对称共轭聚合物的制备方法，其特征在于，所述单体M1-1和M1-2的制备方法包括如下步骤：

（1）将2-氰基噻吩，2-氰基吡啶或2-氰基呋喃与丁二酸二乙酯在碱性条件下，反应生成化合物A，结构如下：

Ar为呋喃，噻吩或吡啶；

（2）将化合物A与R≥C₂₀的碘代饱和支化烷基链烃通过亲核取代反应得到含有烷基链的化合物B;

所述含有烷基链的化合物B的结构如下：

其中R为≥C₂₀的饱和支化烷基链，Ar为呋喃，噻吩或吡啶；

（3）将步骤（2）所得到的含有烷基链的化合物B在有机溶剂中用NBS进行单边溴化，得到含有溴的前驱体C，结构如下：

其中R为≥C₂₀的饱和支化烷基链，Ar为呋喃，噻吩或吡啶；

（4）将步骤（3）所得到的含有溴的前驱体C分别与c组和d组物质进行偶联反应分别得到前驱体D和E；

c组：Bu₃Sn-T，催化剂Pd₂(dba)₃，配体P(o-Tolyl)₃；

d组：Bu₃Sn-TT，催化剂Pd₂(dba)₃，配体P(o-Tolyl)₃；

其中R为≥C₂₀的饱和支化烷基链，Ar为呋喃，噻吩或吡啶；

（5）将步骤（4）中前驱体D和E分别用NBS进行溴化反应，得到单体M1-1和M1-2。

4.如权利要求1所述两种含有异构体重复单元局部不对称的共轭聚物应用于制备有机场效应晶体管材料上。