[发明专利]支承体、支承体的制造方法及光学膜的制造方法

权利要求书

1.一种支承体的制造方法，其为将流延胶浆一边支承一边输送的支承体的制造方法，所述流延胶浆包含：构成光学膜的树脂、和溶剂，其特征在于，

所述制造方法包括：在金属带上形成多层衬垫层的工序，

最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

2.根据权利要求1所述的支承体的制造方法，其特征在于，就所述最表层的衬垫层的硬度而言，比相对于该最表层的衬垫层更位于所述金属带侧的至少1层的衬垫层的硬度高。

3.根据权利要求1或2所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比最靠近所述金属带的衬垫层的硬度高。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上。

5.根据权利要求4所述的支承体的制造方法，其特征在于，在所述工序中，通过硬铬镀敷加工来形成多层所述衬垫层。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的支承体的制造方法，其特征在于，在所述工序中，通过玻璃加工来形成多层所述衬垫层，

所述最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为30～100nm，

所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下，

所述多层衬垫层的热导率为0.8～1W/m·K。

7.一种支承体，其为将流延胶浆一边支承一边输送的支承体，所述流延胶浆包含：构成光学膜的树脂、和溶剂，其特征在于，

所述支承体包含：

金属带、和

位于所述金属带上的多层衬垫层；

最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

8.根据权利要求7所述的支承体，其特征在于，就所述最表层的衬垫层的硬度而言，比相对于该最表层的衬垫层更位于所述金属带侧的至少1层的衬垫层的硬度高。

9.根据权利要求7或8所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比最靠近所述金属带的衬垫层的硬度高。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上。

11.根据权利要求10所述的支承体，其特征在于，所述多层衬垫层分别由硬铬镀敷来构成。

12.根据权利要求7-9中任一项所述的支承体，其特征在于，

所述多层衬垫层分别由玻璃材料构成，

所述最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为30～100nm，

所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下，

所述多层衬垫层的热导率为0.8～1W/m·K。

13.一种光学膜的制造方法，其为使用根据权利要求7-12中任一项所述的支承体来制造光学膜的光学膜的制造方法，其特征在于，

所述制造方法包括：

将胶浆在所述支承体上流延而形成流延膜的工序，所述胶浆包含构成所述光学膜的树脂、和溶剂；

将所述流延膜从所述支承体剥离的工序；

和使剥离的所述流延膜干燥而得到所述光学膜的工序。