[发明专利]一种能调整植物根系与营养液面距离的穴盘架及种植盘

说明书

本发明涉及植物水培装置领域，具体涉及一种能调整植物根系与营养液面距离的穴盘架及种植盘，通过在穴盘架两侧增加高度调节结构来调节幼苗根系与营养液面的距离，所述高度调节结构设计在穴盘架两侧，包括挖设在穴盘架两侧的凹槽和高度垫块，凹槽内壁设置有高度垫块隔档，所述高度垫块通过插销转动连接在凹槽内壁的安装孔内，通过转动至不同位置实现高度调节。本发明结构简单、合理，既能保证幼苗培育期所需要的养分，又能保证幼苗生长过程中不会造成烂根及长藻，可大量应用于植物水培。

技术领域

本发明涉及植物水培装置领域，具体涉及一种能调整植物根系与营养液面距离的结构。

背景技术

植物栽培时期，需要将植物根系浸入营养液中，为植物提供生长所必须的养分，而植物工厂中的植物在不同生长阶段，例如育苗期、生长较小期和较大期，其根系的大小及尺寸会随着生长而变化，且其所需要的营养液的深度也不尽相同。例如生长前期需要较深的营养液，以保证刚发出的小根须可接触到营养液，生长后期需要的营养液较浅，既要保证根系能够吸收到足够的水分，又不至于营养液过深，根系接触的氧气过少而造成烂根，甚至由于缺氧而导致营养液表面长藻。

现有技术中，为了解决上述问题，通过调整营养液流速、出水口大小及位置等方式调整营养液深度，使得其能够符合植物根系生长的需求，但随着植物根系的生长，根系逐渐变长变多，相邻的根系容易缠绕在一起，从而导致分栽时会损伤根系，不利于生长，成为限制植物生长的一个主要因素。

发明内容

为了解决上述技术问题，实现植物不同生长时期对营养液的不同需求，需要提供一种能够调整植物根系与营养液面距离变化、保证不同时期植物对营养液的需求和分栽期不会损伤植物根系的可调高度结构。

为实现上述目的，本发明提供了一种能够调整植物根系与营养液面距离的穴盘架，具体包括以下技术方案：

育苗穴盘架增加有高度调整结构，所述高度调整结构包括挖设在穴盘架两侧的凹槽和高度垫块，所述高度垫块转动连接在凹槽内，且该高度垫块在凹槽内由第一位置转动到第二位置或者由第n位置转动到第n+1位置……第n+i位置实现高度调节,其中n＝1,i∈N⁺。

优选的，高度调整结构设计在穴盘架两侧。

优选的，所述凹槽内设置有高度垫块隔档，用于控制高度垫块在高模式中的位置及角度。

优选的，所述高度垫块隔档呈阶梯状设置在凹槽内壁，所述高度垫块隔档与所述凹槽一体成型。

优选的，所述高度垫块截面为多边形。

优选的，所述高度垫块截面为梯形，所述第一位置为水平位置，所述第二位置为竖直位置；或者所述高度垫块截面为矩形、六边形或者其他多边形，所述第n位置、第n+1位置、……、第n+i位置均为水平位置。

优选的，所述高度垫块截面为梯形：该高度垫块处于水平位置时候，其上下面平行，其远离高度垫块隔档一侧为直角，其靠近高度垫块隔档的一侧为斜面，且该斜面底部与高度垫块隔档紧抵,该高度垫块处于竖直位置时，其左右面平行，其远离高度垫块隔档一侧为较大矩形面，其靠近高度垫块隔档一侧为较小矩形面，且该较小矩形面与高度垫块隔档紧抵；或者所述高度垫块截面为矩形：高度垫块逆时针旋转至第一水平位置时，距离旋转轴较近的短边位于下方，此时旋转轴距离模组的距离为a；该高度垫块处于第二水平位置时，距离旋转垫块较远的长边位于下方，此时旋转轴距离模组的距离为b；该高度垫块处于第三竖直位置时，距离旋转垫块较远的短边位于下方，此时旋转轴距离模组的距离为c。或者所述高度垫块截面为六边形：高度垫块顺时针旋转于第一位置时，距离旋转轴最近的长边位于下方，此时旋转轴距离模组的距离为a；该高度垫块处于第二位置时，距离旋转垫块较远的长边位于下方，此时旋转轴距离模组的距离为b；该高度垫块处于第三位置时，距离旋转垫块最远的长边位于下方，此时旋转轴距离模组的距离为c。