[发明专利]一种显示面板、其制作方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910002917.8 申请日: 2019-01-02
公开(公告)号: CN109728205B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 隋凯;李晓虎;周翔;孙中元;闫华杰;靳倩 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置,该显示面板的制作方法,包括:采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层;控制各造孔粒子迁移至像素界定层背离衬底基板一侧的边缘处;对像素界定层进行固化,并控制各造孔粒子升华,以使像素界定层在背离衬底基板一侧的表面形成多个开孔;在具有开孔的像素界定层的表面形成空穴注入层;空穴注入层在各开孔处隔断。通过在像素界定层中掺入造孔粒子并控制各造孔粒子升华,以使像素界定层的上表面形成多个开孔,因而,空穴注入层会在各开孔处隔断,有效阻断了相邻子像素间的电流横向传输,缓解相邻子像素之间的串扰的问题,且该制作方法的工艺简单易行,工艺成本低。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示装置具有柔性可弯折、轻薄、可视角度更大、色彩艳丽、不需要背光源,节省电能等诸多优点,具有广泛的应用前景。但是OLED显示装置也存在一个棘手的问题,那就是相邻子像素间的串扰问题,这一问题成为阻碍OLED量产的关键因素之一。

OLED显示装置的阳极多采用磁控溅射(Sputter)工艺制作,得到的阳极的表面粗糙度较差,有的地方会出现凸起,在凸起的位置容易产生尖端放电现象,导致发光异常,通过适当增加空穴注入层(Hole Inject Layer,HIL)的厚度,可以有效改善阳极表面不平整引起的异常放电现象。

然而,由于采用高精度金属掩膜版(Fine Metal Mask,FMM)蒸镀的方式制作空穴注入层,成本太高,且空穴注入层太厚容易堵住FMM掩膜版上的孔,因而很难形成图形化的空穴注入层,因此,空穴注入层主要采用整面蒸镀的方式形成,此外,由于空穴注入层的导电性太强,使电流横向传输至相邻子像素,从而导致相邻子像素微亮,出现发光串扰现象。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置,用以改善现有技术中存在的有机发光二极管显示装置中相邻子像素间容易发生串扰的问题。

第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法,包括:

采用掺入多个造孔粒子的绝缘材料在衬底基板上形成像素界定层;

控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处;

对所述像素界定层进行固化,并控制各所述造孔粒子升华,以使所述像素界定层在背离所述衬底基板一侧的表面形成多个开孔;

在具有所述开孔的所述像素界定层的表面形成空穴注入层;所述空穴注入层在各所述开孔处隔断。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述造孔粒子具有磁性;

所述控制各所述造孔粒子迁移至所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的边缘处,包括:

将所述像素界定层置于磁场中,通过调节磁场强度和磁场方向,控制各所述造孔粒子迁移至凸出于所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的表面处,且在垂直于所述衬底基板的方向上,所述造孔粒子凸出于所述像素界定层的高度小于所述造孔粒子的高度的一半。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述控制各所述造孔粒子升华,包括:

采用加热或光照的方式,控制各所述造孔粒子升华。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,还包括:在所述空穴注入层上形成空穴传输层;所述空穴传输层在各所述开孔处隔断。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述造孔粒子为以磁性粒子作为反应核心,并以有机物作为包裹物构成的磁性纳米粒子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910002917.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top