[发明专利]发声装置及其制作方法以及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910002464.9 申请日: 2019-01-02
公开(公告)号: CN111405455B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 韩艳玲;董学;王海生;刘英明;赵利军;张晨阳;李佩笑;郭玉珍;李秀锋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H04R31/00 分类号: H04R31/00;H04R9/06;H04R9/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发声 装置 及其 制作方法 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种发声装置,包括:至少两个发声单元,其中,各所述发声单元包括:

透明结构层,包括凹槽和位于所述凹槽周围的支撑部;

压电振动薄膜,覆盖所述凹槽并与所述支撑部形成空腔,

其中,所述压电振动薄膜包括底膜,覆盖所述凹槽;以及至少一个压电结构,位于所述空腔远离所述透明结构层的一侧;各所述压电结构包括:第一电极,位于所述空腔远离所述透明结构层的一侧;压电材料层,位于所述第一电极远离所述空腔的一侧;以及第二电极,位于所述压电材料层远离所述第一电极的一侧;

在所述压电振动薄膜的所述底膜远离所述压电结构的一侧贴附的黏合层,所述黏合层被配置为将所述底膜和所述透明结构层黏合,所述黏 合层的厚度为8-12微米;以及

位于所述底膜上的绝缘层,所述第一电极通过所述绝缘层相互绝缘。

2.根据权利要求1所述的发声装置,其中,所述第一电极在所述透明结构层上的正投影与所述凹槽在所述透明结构层上的正投影至少部分交叠。

3.根据权利要求1所述的发声装置,其中,所述透明结构层的材料包括玻璃。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述至少两个发声单元包括第一发声单元和第二发声单元,所述发声装置还包括:

驱动器,被配置为驱动所述第一发声单元发出第一频率的超声波,驱动所述第二发声单元发出第二频率的超声波,所述第一频率的超声波和所述第二频率的超声波被配置为发生非线性交互作用并解调出可听声。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述至少两个发声单元的所述透明结构层为一体的透明结构层,所述至少两个发声单元的所述压电振动薄膜阵列排布在所述一体的透明结构层上。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述至少两个发声单元的所述第一电极为公共电极,或者所述至少两个发声单元的所述第二电极为公共电极。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述至少一个压电结构包括多个层叠设置的所述压电结构,在相邻的两个所述压电结构中,远离所述透明结构层的一个所述压电结构的第一电极为靠近所述透明结构层的另一个所述压电结构的第二电极。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,各所述发声单元还包括:

绝缘层,位于所述第一电极与所述压电材料层之间。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述第一电极和所述第二电极的材料包括透明导电材料。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述压电材料层的材料包括聚偏氟乙烯(PVDF)、氮化铝(AlN)和铌酸锂(LiNbO3)中的至少一种。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,还包括:

保护膜,位于所述压电振动薄膜远离所述透明结构层的一侧。

12.根据权利要求1-3中任一项所述的发声装置,其中,所述凹槽在沿垂直于所述透明结构层的方向上贯穿所述透明结构层。

13.一种显示装置,包括根据权利要求1-12中任一项所述的发声装置。

14.根据权利要求13所述的显示装置,还包括:

显示面板,包括显示区,

其中,所述发声装置在所述显示面板上的正投影与所述显示区至少部分重叠。

15.根据权利要求14所述的显示装置,其中,所述发声装置在所述显示面板上的正投影与所述显示区的重叠面积占所述显示区的面积的范围为30%-100%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910002464.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top