[发明专利]校正干涉滤波器因入射角引起的透射偏离的系统、方法和设备

权利要求书

1.一种产生图像的方法，所述方法包括：

从发射滤光器接收与发射光谱的选定波长范围相对应的透射光谱，其中所述发射光谱以偏离相对于所述发射滤光器的法向入射角的多个入射角照射所述发射滤光器；

测量所述透射光谱的强度；

基于所述发射滤光器的根据所述多个入射角变化的光谱响应，获得所述透射光谱的经校正强度；以及

基于所述透射光谱和所述经校正强度来产生图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述发射光谱是从样本中的发光源发射的，所述发光源包括以下各者中的一者：

荧光源，

生物发光源，

磷光源，以及

化学发光源。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述样本是生物的。

4.根据权利要求1所述的方法，其中获得所述经校正强度包括：

通过针对所述发射滤光器的视野的一个或多个位置执行以下两者的卷积来获得卷积函数：(i)表征报告物的已知发射光谱的函数，以及(ii)表征对应于所述一个或多个位置中的位置的入射角的已知透射光谱的函数。

5.根据权利要求4所述的方法，其中获得所述经校正强度还包括：

通过在下限波长阈值与上限波长阈值之间对所述卷积函数进行积分来获得经积分卷积函数。

6.根据权利要求5所述的方法，其中获得所述经校正强度还包括：

基于在参考入射角下所述发射滤光器的已知透射光谱的强度来对所述经积分卷积函数进行归一化。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述参考入射角是法向于所述发射滤光器的入射角。

8.根据权利要求6所述的方法，其中所述归一化包括：

通过执行表征所述已知发射光谱的所述函数和表征在所述参考入射角下所述发射滤光器的所述已知透射光谱的函数的卷积来获得参考卷积函数；

通过在所述下限波长阈值与所述上限波长阈值之间对所述参考卷积函数进行积分来获得经积分参考卷积函数；以及

将所述经积分卷积函数除以所述经积分参考卷积函数。

9.根据权利要求1所述的方法，其中获得经校正强度包括：

产生校正图像，对于所述发射滤光器的视野的一个或多个位置，所述校正图像包括对在所述一个或多个位置中的位置处测量的所述透射光谱的强度的校正。

10.根据权利要求9所述的方法，其中产生所述图像包括：

获取原始图像，对于所述发射滤光器的视野的一个或多个位置，所述原始图像包括所述透射光谱的测量的原始强度；以及

执行所述原始图像和所述校正图像的卷积。

11.一种用于荧光成像的系统，所述系统包括：

光源，其提供激发光谱；

激发滤光器，其向样本提供从所述激发光谱中选择的激发波长范围；

发射滤光器，其提供透射光谱，所述透射光谱包括从所述样本接收的发射光谱的选定发射波长范围，其中所述发射滤光器以偏离相对于所述发射滤光器的法向入射角的多个入射角接收所述发射光谱；

荧光检测器，其测量在所述发射滤光器的整个视野中的所述透射光谱的强度；以及

计算装置，其存储指令，所述指令在由所述计算装置的一个或多个处理器执行时，基于所述透射光谱的根据所述多个入射角变化的光谱移位来校正所述强度。

12.根据权利要求11所述的装置，其还包括定位在所述样本与所述发射滤光器之间的准直光学器件。