[发明专利]生产氯硅烷的方法

权利要求书

1.一种在流化床反应器中通过使含氢和四氯化硅的反应气体与含硅和催化剂的颗粒接触物质反应来生产氯硅烷的方法，其中所述氯硅烷的通式为H_nSiCl_4-n和/或H_mCl_6-mSi₂，其中n＝1-4且m＝0-4，其特征在于，

-反应器设计由指数K1描述

其中

＝反应器的填充水平，

V_{reactor，eff}＝反应器的有效体积[m³]，

A_tot,cooled＝反应器中冷却表面积的总和[m²]，

d_hyd＝水力反应器直径[m]；

-所述接触物质的构成用指数K2描述

其中

B_AK＝接触物质的粒径分布的宽度[μm]，

d₃₂＝颗粒索特直径[μm]，

R_Si＝硅的纯度，

δ_rel＝接触物质中的相对催化剂分布；

-反应条件用指数K3描述

其中

u_L＝表观气速[m/s]，

ν_F＝流体的运动粘度[m²/s]，

ρ_F＝流体密度[kg/m³]，

p_diff＝流化床上的压降[kg/m*s²]，

g＝重力加速度[m/s²]，

其中K1的值为2至20，K2的值为0.001至200，以及K3的值为0.5至10000。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，K1的值为3至18，优选为4至16，特别优选为6至12。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，K2的值为0.005至100，优选为0.01至25，特别优选为0.02至15。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，K3的值为0.5至10000，优选为3至3000，特别优选为5至1000。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述有效反应器体积V_{Reactor，eff}为1至300m³，优选为5至200m³，特别优选为10至150m³，特别是20至100m³。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述水力设备直径d_hyd为0.5至2.5m，优选为0.75至2m，特别优选为0.8至1.5m。

7.根据前述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述流化床上的压降p_diff为10000至200000kg/m*s²，优选为30000至150000kg/m*s²，特别优选是50000至120000kg/m*s²。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述颗粒索特直径d_hyd为10至2000μm，优选为50至1500μm，特别优选为100至1000μm，特别是200至800μm。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述接触物质的粒径分布的宽度B_AK为10至1500μm，优选为100至1000μm，特别优选为300至800μm。