[发明专利]过滤膜处理装置、膜过滤装置及过滤膜处理方法有效

专利信息
申请号: 201880097912.1 申请日: 2018-10-02
公开(公告)号: CN112752605B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 今村英二;安永望;野田清治 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: B01D67/00 分类号: B01D67/00;B01D65/06;C02F1/44
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 朱龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 滤膜 处理 装置 过滤 方法
【权利要求书】:

1.一种过滤膜处理装置,所述过滤膜处理装置对过滤膜进行臭氧处理,其中,所述过滤膜处理装置具备:

第一供给部,所述第一供给部向所述过滤膜供给含臭氧流体;

测定部,所述测定部在所述第一供给部供给所述含臭氧流体的供给工序中测定基于所述过滤膜的压力的测定值;及

控制部,所述控制部基于用所述测定部测定的所述测定值的变化,调整所述第一供给部供给的所述含臭氧流体的供给量,

作为所述测定值,所述测定部分别测定所述第一供给部供给所述含臭氧流体第一时间后的第一测定值H1及供给所述含臭氧流体第二时间后的第二测定值H2,所述第二时间是比所述第一时间长的时间,

所述控制部在所述第一测定值H1与所述第二测定值H2的下述式1中的变化率α为阈值α1以下时,抑制利用所述第一供给部进行的所述含臭氧流体的供给,在所述变化率α大于阈值α1时,持续利用所述第一供给部进行的所述含臭氧流体的供给,使在先测定的第二时间的第二测定值H2成为重新测定时的第一时间的第一测定值H1,重新测定此后的第二时间的第二测定值作为重新测定时的第二时间的第二测定值H2,直到所述变化率α成为所述阈值α1以下,在先测定的第一时间与第二时间的间隔和重新测定时的第一时间与第二时间的间隔相同,

|H1-H2|÷|H1|=α…式1。

2.一种过滤膜处理装置,所述过滤膜处理装置对过滤膜进行臭氧处理,其中,所述过滤膜处理装置具备:

第一供给部,所述第一供给部向所述过滤膜供给含臭氧流体;

第二供给部,所述第二供给部向所述过滤膜供给与所述含臭氧流体及被处理液体不同的测定用流体;

测定部,所述测定部在所述第二供给部供给所述测定用流体的供给工序中测定基于所述过滤膜的压力的测定值;及

控制部,所述控制部基于用所述测定部测定的所述测定值的变化,调整所述第一供给部供给的所述含臭氧流体的供给量,

所述控制部在所述测定部的测定时,使所述第一供给部停止并且从所述第二供给部向所述过滤膜供给所述测定用流体,并用所述测定部测定所述测定值,

作为所述测定值,所述测定部分别测定所述第一供给部供给所述含臭氧流体第一时间后且所述第二供给部的所述测定用流体的供给期间的第一测定值H1及所述第一供给部供给所述含臭氧流体第二时间后且所述第二供给部的所述测定用流体的供给期间的第二测定值H2,所述第二时间是比所述第一时间长的时间,

所述控制部在所述第一测定值H1与所述第二测定值H2的下述式1中的变化率α为阈值α1以下时,抑制利用所述第一供给部进行的所述含臭氧流体的供给,在所述变化率α大于阈值α1时,持续利用所述第一供给部进行的所述含臭氧流体的供给,使在先测定的第二时间的第二测定值H2成为重新测定时的第一时间的第一测定值H1,重新测定此后的第二时间的第二测定值作为重新测定时的第二时间的第二测定值H2,直到所述变化率α成为所述阈值α1以下,在先测定的第一时间与第二时间的间隔和重新测定时的第一时间与第二时间的间隔相同,

|H1-H2|÷|H1|=α…式1。

3.根据权利要求2所述的过滤膜处理装置,其中,

所述过滤膜从一次侧向二次侧过滤被处理液体,

所述第二供给部以从所述过滤膜的二次侧向一次侧注入所述测定用流体和从所述过滤膜的一次侧向二次侧吸引或压入所述测定用流体中的任一种方式构成。

4.根据权利要求1至权利要求3中任一项所述的过滤膜处理装置,其中,

所述过滤膜从一次侧向二次侧过滤被处理液体,

所述第一供给部以从所述过滤膜的二次侧向一次侧注入所述含臭氧流体和从所述过滤膜的一次侧向二次侧吸引或压入所述含臭氧流体中的任一种方式构成。

5.根据权利要求1至权利要求3中任一项所述的过滤膜处理装置,其中,

所述第一供给部供给臭氧气体、溶解臭氧而成的臭氧水和在臭氧水中混和了促进通过臭氧的分解而生成的自由基的产生的物质而成的臭氧混合水中的至少任一种作为所述含臭氧流体。

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