[发明专利]电子束装置

权利要求书

1.一种电子束装置，具有：

电子光学系统，向试样照射电子束，对从试样释放的释放电子进行检测；

光脉冲照射系统，向所述试样照射光脉冲；

同步处理部，在所述电子光学系统中，与所述电子束的偏转信号同步地进行所述释放电子的检测采样；

图像信号处理部，根据基于所述电子光学系统所检测到的所述释放电子而输出的检测信号来形成图像；和

装置控制部，设定所述电子光学系统的控制条件，

若将所述电子束扫描相当于所述图像的一个像素的所述试样的区域所需的时间设为单位像素时间，则所述装置控制部将进行所述释放电子的检测采样的采样频率设定为比每个所述单位像素时间的所述光脉冲的照射数除以所述单位像素时间得到的值大。

2.根据权利要求1所述的电子束装置，其中，

以通过所述装置控制部而设定的采样频率，按每一个像素而将基于所述电子光学系统所检测到的所述释放电子而输出的所述检测信号平均化，在所述图像信号处理部中形成所述图像。

3.根据权利要求1所述的电子束装置，其中，

所述电子束装置具有：光脉冲照射设定部，对所述光脉冲照射系统的控制条件进行设定，

作为所述光脉冲照射系统的控制条件，包含所述光脉冲的波长、强度、照射时间宽度以及照射间隔时间。

4.根据权利要求3所述的电子束装置，其中，

所述光脉冲照射设定部对第1光照射条件、以及与所述第1光照射条件不同的第2光照射条件进行设定，

所述图像信号处理部形成第1检测信号与第2检测信号的差图像，所述第1检测信号是基于在所述第1光照射条件下将所述光脉冲向所述试样照射从而所述电子光学系统所检测到的所述释放电子而输出的信号，所述第2检测信号是基于在所述第2光照射条件下将所述光脉冲向所述试样照射从而所述电子光学系统所检测到的所述释放电子而输出的信号。

5.根据权利要求4所述的电子束装置，其中，

所述图像信号处理部基于所述第1检测信号与所述第2检测信号的差分值来形成所述差图像，或者进行根据所述第1检测信号而形成的第1图像与根据所述第2检测信号而形成的第2图像的差分处理来形成所述差图像。

6.根据权利要求4所述的电子束装置，其中，

进行通过所述装置控制部而设定的所述释放电子的检测采样的采样频率对于所述第1光照射条件以及所述第2光照射条件的任何条件，都比每所述单位像素时间的所述光脉冲的照射数除以所述单位像素时间得到的值大。

7.根据权利要求4所述的电子束装置，其中，

所述电子束装置具有图像显示部，

所述装置控制部在所述图像显示部显示所述差图像。

8.根据权利要求4所述的电子束装置，其中，

所述光脉冲照射设定部对所述第1光照射条件、以及所述光脉冲的照射间隔时间与所述第1光照射条件不同的所述第2光照射条件进行设定。

9.根据权利要求4所述的电子束装置，其中，

所述光脉冲照射设定部对所述第1光照射条件、以及所述光脉冲的波长与所述第1光照射条件不同的所述第2光照射条件进行设定。

10.根据权利要求4所述的电子束装置，其中，

所述光脉冲照射设定部对所述光脉冲的照射间隔时间不同的多个光照射条件进行设定，

所述装置控制部基于所述检测信号的信号量的变化，求取所述试样的时间常数，所述检测信号是基于在所述多个光照射条件下将所述光脉冲向所述试样照射从而所述电子光学系统所检测到的所述释放电子而输出的信号。