[发明专利]记录方法、记录装置、再生方法、再生装置、以及高速响应元件有效
| 申请号: | 201880091924.3 | 申请日: | 2018-12-05 |
| 公开(公告)号: | CN111902867B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
| 发明(设计)人: | 大越慎一;中岛诚;白田雅史;堂下广昭 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东京大学;国立大学法人大阪大学;富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/02 | 分类号: | G11B5/02;G11B5/706;H01F1/113 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 方法 装置 再生 以及 高速 响应 元件 | ||
1.一种记录方法,其中,
对使用了ε氧化铁粒子作为磁记录材料的磁记录介质进行外部磁场的施加和脉冲激光的照射,从而使所述ε氧化铁粒子的磁化反转,
根据所记录的信息而改变所述脉冲激光的强度,对所述磁记录介质通过多阶段的磁化状态以多值的方式记录信息。
2.如权利要求1所述的记录方法,其中,
在对所述磁记录介质施加了所述外部磁场之后,照射所述脉冲激光。
3.如权利要求1所述的记录方法,其中,
在对所述磁记录介质照射了所述脉冲激光之后,施加所述外部磁场。
4.如权利要求1~3中任1项所述的记录方法,其中,
所述脉冲激光是所述ε氧化铁粒子所具有的吸收谱内的波长。
5.如权利要求1所述的记录方法,其中,
所述记录在20ns以内进行。
6.一种记录装置,其中,具备:
磁场施加部,对包含ε氧化铁粒子的磁记录介质施加外部磁场;以及
光照射部,对所述磁记录介质照射脉冲激光,
通过所述外部磁场和所述脉冲激光而使所述ε氧化铁粒子的磁化反转,
所述磁场施加部具有第一线圈部和第二线圈部,在所述第一线圈部与所述第二线圈部之间配置所述磁记录介质,
所述第一线圈部以及第二线圈部在各自与所述磁记录介质的记录面对置配置的对置面上具有贯通了厚度的贯通孔,
经由所述第一线圈部的贯通孔而向所述记录面照射的脉冲激光透过所述记录面从所述第二线圈部的贯通孔被射出到外部。
7.一种再生方法,其中,
关于使用ε氧化铁粒子作为磁记录材料、且根据所记录的信息而改变脉冲激光的强度、通过多阶段的磁化状态而能够以多值的方式记录信息的磁记录介质,检测所述磁记录介质的磁化,基于从所述磁记录介质检测到的所述磁化的强度,再生与所述磁化的强度相应的信息。
8.一种再生装置,其中,具备:
检测部,关于使用ε氧化铁粒子作为磁记录材料、且根据所记录的信息而改变脉冲激光的强度、通过多阶段的磁化状态而能够以多值的方式记录信息的磁记录介质,检测所述磁记录介质的磁化;以及
信息再生部,基于从所述磁记录介质检测到的所述磁化的强度,再生与所述磁化的强度相应的信息。
9.一种高速响应元件,其中,
包含ε氧化铁粒子,且其磁化状态配合被照射脉冲太赫兹光的时机而响应,
在所述磁化状态的响应中,所述高速响应元件中的所述脉冲太赫兹光所照射的面的垂直方向上的磁化发生增减。
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