[发明专利]水处理装置在审
申请号: | 201880090883.6 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN111886204A | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 内藤皓贵;生沼学;神谷佑;稻永康隆 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | C02F1/48 | 分类号: | C02F1/48 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水处理 装置 | ||
1.一种水处理装置,具备在水平方向上等间隔地配置的平板状的接地电极、在相邻的所述接地电极之间以与所述接地电极相向的方式配置的高压电极部、以及向相邻的所述接地电极之间供给被处理水的供水部,利用形成在所述接地电极与所述高压电极部之间的电火花来进行被处理水的处理,其中,
该水处理装置具有支承构造体,该支承构造体支承所述接地电极且支承与所述高压电极部连接的绝缘构件,所述绝缘构件的上端部配置于比所述供水部靠上方的位置。
2.根据权利要求1所述的水处理装置,其中,
所述供水部在铅垂方向上设置于所述高压电极部与所述支承构造体之间。
3.根据权利要求1或2所述的水处理装置,其中,
所述接地电极在下端部支承于所述支承构造体,在所述绝缘构件的上端部连接有所述高压电极部。
4.根据权利要求1或2所述的水处理装置,其中,
所述接地电极在上端部支承于所述支承构造体,所述绝缘构件在上端部由所述支承构造体支承。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的水处理装置,其中,
所述供水部具备抑制所述被处理水的飞散的遮蔽板。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的水处理装置,其中,
所述绝缘构件在表面的至少一部分具备防水部。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的水处理装置,其中,
所述绝缘构件的截面积在从下端部到上端部之间变化。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的水处理装置,其中,
所述高压电极部具有与所述相邻的所述接地电极相向的相向电极部和支承所述相向电极部的支承部,所述支承部将所述相向电极部保持成水平且与相邻的接地电极等距离。
9.根据权利要求8所述的水处理装置,其中,
将所述高压电极部的相向电极部在铅垂方向上多级地配置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的水处理装置,其中,
该水处理装置还具备使利用所述电火花处理了的被处理水滞留的处理水槽、和将所述处理水槽内的被处理水向所述供水部输送的循环配管。
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