[发明专利]使用激光减少透明固体的反射、采用透明固体的涂层和设备

权利要求书

1.使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的方法，包括：

在保持器上提供所述透明固体材料；

确定所述透明固体材料的表面上期望的目标纳米结构二维抗反射图案阵列；

确定所述透明固体材料的表面上期望的焦斑分布；

确定所述透明固体材料的熔融温度；

从激光能量密度值的范围中选择激光能量密度值；

分别从波长、重复率和脉冲持续时间的范围中选择激光脉冲的波长、重复率和脉冲持续时间；

选择在激光表面上每焦斑施加的连续激光脉冲的数量；

使所述透明固体材料的表面暴露于具有所选波长、重复率、脉冲持续时间和连续激光脉冲数的聚焦激光辐射，以将所述透明材料的温度升高至所述熔融温度附近，从而使所述表面的至少一部分成形并产生所述期望的目标纳米结构二维图案阵列的至少部分；

使所述透明固体材料相对平移以产生所述期望的纳米结构二维图案阵列。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括使所述透明固体材料的表面暴露于聚焦的圆偏振激光辐射。

3.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述透明固体材料的表面上期望的焦斑分布包括确定预先选择的百分比的相邻焦斑的重叠。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述预先选择的百分比是89％或更低。

5.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，进一步包括：

在静止的透明固体材料上使所述激光束扫描和/或使所述激光束光栅化。

6.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中所述透明固体材料包括至少玻璃片。

7.根据权利要求6所述的成形方法，其中使所述透明固体材料成形包括使电子设备上的玻璃片成形，所述电子设备包括太阳能电池(SC)、显示器、屏幕、发光二极管(LED)和传感器。

8.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中所述波长选自200nm至1100nm的范围。

9.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中所述重复率选自1kHz至1MHz的范围。

10.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中选择多达10ps的所述脉冲持续时间。

11.根据前述权利要求中任一项所述的成形方法，其中从3.8J/cm²至1.47J/cm²的范围中选择所述激光能量密度。

12.使透明固体材料的表面成形以减少光谱中的反射的制造配置，包括：

照射模块，具有：

脉冲激光源；

用于聚焦来自所述脉冲激光源的激光束的光学系统；

被配置以保持所述透明固体材料的保持器；

控制器，用于：

从激光能量密度值的范围中设置激光能量密度值；

分别从激光脉冲波长、重复率和持续时间的范围中设置激光脉冲波长、激光脉冲重复率和激光脉冲持续时间；

设置在激光表面上每焦点斑点施加的连续激光脉冲的数量；

在用来自所述脉冲激光源的激光束进行激光暴露期间，设置所述透明固体材料的相对平移顺序以产生期望的纳米结构二维抗反射图案阵列。

13.根据权利要求12所述的制造配置，其中所述光学系统包括至少反射器以将来自所述脉冲激光源的激光束引导至所述透明固体材料，以及至少透镜以将所述激光束聚焦在所述透明固体材料上。

14.根据权利要求12至13中任一项所述的制造配置，其中所述脉冲激光源是皮秒激光源或飞秒激光源。