[发明专利]氧化石墨烯膜的保护性涂层在审
| 申请号: | 201880089413.8 | 申请日: | 2018-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN111727082A | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
| 发明(设计)人: | 郑世俊;林伟平;约翰·埃里克森;北原勇;欧泽尔·史迪奇;谢宛芸;王鹏;山代祐司;克雷格·罗杰·巴特尔斯;小泓诚 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
| 主分类号: | B01D65/08 | 分类号: | B01D65/08;B01D67/00;B01D69/12;B01D71/02;B01D71/56 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 赵艳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氧化 石墨 保护性 涂层 | ||
1.一种反渗透膜结构,其包含:
含有聚酰胺层的膜;和
布置在所述膜上的复合材料涂层;
其中所述复合材料涂层包含交联的氧化石墨烯,所述交联的氧化石墨烯是使包含氧化石墨烯和共聚物交联剂的混合物反应的产物;和
其中所述共聚物交联剂包含至少任选取代的乙烯基咪唑基组成单元和任选取代的丙烯酰胺组成单元。
2.根据权利要求1所述的结构,其中,所述复合材料涂层对氯基氧化剂具有抗性。
3.根据权利要求1或2的结构,其中所述共聚物交联剂还包含任选取代的丙烯酸组成单元、任选取代的丙烯酸酯组成单元或其组合。
4.根据权利要求1、2或3所述的结构,其中所述任选取代的乙烯基咪唑组成单元由下式表示:
5.根据权利要求1、2或3所述的结构,其中所述任选取代的乙烯基咪唑基组成单元包括磺化乙烯基咪唑。
6.根据权利要求1、2、3或5所述的结构,其中所述任选取代的乙烯基咪唑组成单元由下式表示:
其中R1为C1-4烃基硫酸根。
7.根据权利要求5所述的结构,其中R1为:
8.根据权利要求1所述的结构,其中所述任选取代的丙烯酰胺组成单元由下式表示:
其中R2和R3独立地为H、任选取代的C1-8烃基、C1-8磺化烃基铵烃基或任选取代的C1-8磺化烃基。
9.根据权利要求7所述的结构,其中R2和R3独立地为H、
10.根据权利要求1所述的结构,其中所述交联剂包含下式的任选取代的丙烯酸酯组成单元:
其中R4为-CH2CH2OH、-CH2CH2CH2OH、-CH2CH2CH2CH2OH或
11.根据权利要求1所述的结构,其中所述交联剂包含下式的任选取代的丙烯酸酯组成单元:
其中R4为-CH2CH2OH、-CH2CH2CH2OH、-CH2CH2CH2CH2OH或
12.根据权利要求1所述的结构,其中所述共聚物交联剂包括:
13.根据权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10或11所述的结构,其中所述氧化石墨烯包括片晶,其中所述片晶在约0.05μm和约50μm之间。
14.根据权利要求1所述的结构,其中复合材料中的氧化石墨烯和交联聚合物的重量比为约1:90重量%。
15.根据权利要求1所述的结构,其中所述复合材料涂层还包含硼酸盐、原硅酸四乙酯、任选取代的氨基烷基硅烷、二氧化硅纳米粒子、聚乙二醇、偏苯三酸、2,5-二羟基对苯二甲酸、CaCl2或其组合。
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