[发明专利]具有三氮烯配体的金属络合物及其从气相沉积金属的用途在审

专利信息
申请号: 201880089213.2 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN111712506A 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: J·松德迈尔;S·普尔茨;F·施罗德 申请(专利权)人: 优美科股份公司及两合公司
主分类号: C07F17/02 分类号: C07F17/02;C07F5/00;C07F5/06;C23C16/00;C30B25/00;C07C245/24;C23C16/18
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 刘学媛
地址: 德国哈瑙*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 三氮烯配体 金属 络合物 及其 沉积 用途
【权利要求书】:

1.金属络合物用于从气相沉积所述金属或所述金属的化合物的用途,所述金属络合物具有至少一个具有式R1-N3-R2的配体L,其中R1和R2为烃基团。

2.根据权利要求1所述的用途,其中所述金属络合物具有至少一个具有式R1-N3-R2的配体L和至少一个选自H、卤素、CO和烃配体的另外的配体X。

3.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述金属络合物具有至少一个具有式R1-N3-R2的配体L,其中R1和R2为烷基基团。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述金属络合物具有式(1):

Mx[(L1)a(L2)b(L3)cXd] (1)

其中

所述配体L,即L1、L2和L3,彼此独立地选自式R1-N3-R2的基团,

其中R1和R2为烃基团,

其中至少对于L1,所述基团R1和R2为烷基基团,

X独立地选自H、卤素、CO和烃配体,

X为1和4之间的整数,

a、b、c和d为整数,其中

a+b+c+d之和为至少x并且不大于12,

a为至少1,并且

b、c和d可等于0。

5.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述金属络合物是均配的并且仅具有式R1-N3-R2的配体L。

6.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述金属络合物是杂配的。

7.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述基团R1和R2彼此独立地具有1至30个C原子。

8.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述金属络合物的所有R1和R2基团都是烷基基团。

9.根据权利要求8所述的用途,其中所述R1和R2基团独立地具有1至15个C原子。

10.根据权利要求8或9所述的用途,其中所述R1和/或R2基团的全部或部分是支链的和/或环状烷基基团。

11.根据权利要求10的用途,其中所述R1和/或R2基团的全部或部分是叔丁基。

12.根据前述权利要求中至少一项所述的用途,其中所述金属络合物具有至少一个配体L,所述配体L为叔丁基-N3-叔丁基或叔丁基-N3-甲基。

13.根据权利要求12所述的用途,其中所述金属络合物的所有配体L为叔丁基-N3-叔丁基或叔丁基-N3-甲基。

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