[发明专利]包含含有含氮环的硅烷化合物的涂布组合物

权利要求书

1.一种涂布组合物，其特征在于，包含：

(S)成分：含硅物质，所述含硅物质为有机硅化合物、和/或其水解物；以及

(T)成分：具有2～100nm的平均粒径的改性金属氧化物的胶体粒子，

所述(S)成分的有机硅化合物包含：

(S1)成分：包含选自烷氧基、芳基氧基、芳烷基氧基和酰氧基中的至少一种水解性基，且不包含含氮杂环结构的有机硅化合物；以及

(S2)成分：具有含氮杂环基的有机硅化合物。

2.根据权利要求1所述的涂布组合物，所述(S2)成分为具有包含1～3个氮原子的含氮杂环基的有机硅化合物。

3.根据权利要求2所述的涂布组合物，所述(S2)成分为具有包含1～3个氮原子、且环形成原子数为5～30的含氮杂环基的有机硅化合物。

4.根据权利要求1或2所述的涂布组合物，所述(S2)成分为下述式(III)所示的化合物，

在式(III)中，

R⁵表示碳原子数1～8的烷基、烷氧基烷基、或酰基，

R⁶表示亚甲基或碳原子数2～20的亚烷基，

R⁷表示包含1～3个氮原子的含氮杂环基，

n表示整数1～3。

5.根据权利要求4所述的涂布组合物，所述R⁷为包含1～3个氮原子、且环形成原子数为5～30的含氮杂环基。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的涂布组合物，所述含氮杂环基中的含氮杂环为吡咯环、吡咯烷酮环、吲哚环、二氢吲哚环、咔唑环、吡啶环、哌啶环、嘧啶环、喹啉环、吡唑环、咪唑环、咪唑啉环、咪唑烷环、苯并咪唑环、三唑环、苯并三唑环或三嗪环。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的涂布组合物，所述(S1)成分为选自下述通式(I)所示的化合物和下述通式(II)所示的化合物中的至少1种有机硅化合物，

(R¹)_a(R³)_bSi(OR²)_4-(a+b) (I)

式中，

R¹和R³各自独立地表示烷基、芳基、卤代烷基、卤代芳基或烯基，或者

R¹和R³各自独立地表示具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、脲基、氨基或氰基并且以Si-C键与硅原子结合的1价有机基，

R²表示碳原子数1～8的烷基、芳基、芳烷基、烷氧基烷基、或酰基，

a和b各自独立地表示整数0、1或2，并且，a+b为整数0、1或2；

〔(R⁴)_cSi(OX)_3-c〕₂Y (II)

式中，

R⁴表示碳原子数1～5的烷基，

X表示碳原子数1～4的烷基或酰基，

Y表示亚甲基或碳原子数2～20的亚烷基，

c表示整数0或1。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的涂布组合物，相对于所述(S1)成分的总质量100质量份，以3～1200质量份的质量比例含有所述(S2)成分。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的涂布组合物，相对于(T)成分的改性金属氧化物胶体粒子100质量份，以25～300质量份包含(S)成分。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的涂布组合物，(T)成分为具有2～100nm的平均粒径的改性金属氧化物胶体粒子(C)，所述胶体粒子(C)以具有2～60nm的平均一次粒径的金属氧化物胶体粒子(A)作为核，在该核表面被覆有由具有1～4nm的平均一次粒径的无机氧化物胶体粒子(B)形成的被覆物。