[发明专利]电光调制器在审
申请号: | 201880088006.5 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN111656264A | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | E·福格特;D·佩尔托特 | 申请(专利权)人: | 奎比格有限公司 |
主分类号: | G02F1/03 | 分类号: | G02F1/03 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 王爱华 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 调制器 | ||
1.一种用于调制具有束路径和束轴线(A)的电磁辐射束的电光调制器,其中所述电光调制器(1)为横向型并且包括:
调制器元件(3),所述调制器元件(3)定位于所述束路径中,
用于接收所述调制器元件(3)的壳体(2),所述壳体(2)形成谐振腔,以及
耦合装置(4),所述耦合装置(4)用于将调制能量输入至所述壳体(2)中,以使得在所述壳体(2)内生成谐振驻波,
其中所述壳体(2)包括在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52),以及
其中所述至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),以使得在所述谐振腔中所述侧壁与所述束轴线(A)之间的沿垂直于所述束轴线(A)的方向的距离(d1,d2,d3,d4,d5,c1,c2,c3,c4)在所述侧壁的长度(L)的至少一部分上变化。
2.根据权利要求1所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)包括各自在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的四个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)以及大致垂直于所述束轴线(A)布置的前面和后面(11,12)。
3.根据权利要求1或2所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)的至少一个侧壁(21,31,41)包括至少一个变形部分(21b)和至少一个非变形部分(21a,31a,41a),其中所述变形部分(21b)距所述束轴线(A)具有第二距离(d2)并且所述非变形部分(21a,31a,41a)距所述束轴线(A)具有第一距离(d1)并且所述第二距离(d2)超过所述第一距离(d1),并且所述变形部分(21b)被构造成容置所述耦合装置(4),特别地以使得所述耦合装置(4)被远离所述束轴线(A)布置于所述未变形部分(21a,31a,41a)的延伸部之外。
4.根据权利要求1至3中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(25,26,31,32,35,36,45,46,51,52)的变形部分(25b,26b,31b,32b,35b,36b,45,46,51b,52b)沿垂直于所述束轴线(A)的方向(x)局部地减小或增大所述谐振腔的尺寸。
5.根据权利要求1至4中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(41,42)的变形部分(41b,42b)沿垂直于所述束轴线(A)的方向(x)局部地移位所述谐振腔。
6.根据权利要求1至5中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)的至少两个侧壁(25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),所述侧壁(25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)布置于所述调制器元件(3)的相对的侧上。
7.根据权利要求1至6中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(21,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)的所述至少一个变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b)被构造成影响调制能量的谐振驻波场,特别地被构造成补偿调制能量的谐振驻波场的畸变。
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