[发明专利]电光调制器在审

专利信息
申请号: 201880088006.5 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN111656264A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: E·福格特;D·佩尔托特 申请(专利权)人: 奎比格有限公司
主分类号: G02F1/03 分类号: G02F1/03
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 王爱华
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电光 调制器
【权利要求书】:

1.一种用于调制具有束路径和束轴线(A)的电磁辐射束的电光调制器,其中所述电光调制器(1)为横向型并且包括:

调制器元件(3),所述调制器元件(3)定位于所述束路径中,

用于接收所述调制器元件(3)的壳体(2),所述壳体(2)形成谐振腔,以及

耦合装置(4),所述耦合装置(4)用于将调制能量输入至所述壳体(2)中,以使得在所述壳体(2)内生成谐振驻波,

其中所述壳体(2)包括在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52),以及

其中所述至少一个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),以使得在所述谐振腔中所述侧壁与所述束轴线(A)之间的沿垂直于所述束轴线(A)的方向的距离(d1,d2,d3,d4,d5,c1,c2,c3,c4)在所述侧壁的长度(L)的至少一部分上变化。

2.根据权利要求1所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)包括各自在长度(L)上大致平行于所述束轴线(A)延伸的四个侧壁(13,14,15,16,21,22,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)以及大致垂直于所述束轴线(A)布置的前面和后面(11,12)。

3.根据权利要求1或2所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)的至少一个侧壁(21,31,41)包括至少一个变形部分(21b)和至少一个非变形部分(21a,31a,41a),其中所述变形部分(21b)距所述束轴线(A)具有第二距离(d2)并且所述非变形部分(21a,31a,41a)距所述束轴线(A)具有第一距离(d1)并且所述第二距离(d2)超过所述第一距离(d1),并且所述变形部分(21b)被构造成容置所述耦合装置(4),特别地以使得所述耦合装置(4)被远离所述束轴线(A)布置于所述未变形部分(21a,31a,41a)的延伸部之外。

4.根据权利要求1至3中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(25,26,31,32,35,36,45,46,51,52)的变形部分(25b,26b,31b,32b,35b,36b,45,46,51b,52b)沿垂直于所述束轴线(A)的方向(x)局部地减小或增大所述谐振腔的尺寸。

5.根据权利要求1至4中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(41,42)的变形部分(41b,42b)沿垂直于所述束轴线(A)的方向(x)局部地移位所述谐振腔。

6.根据权利要求1至5中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述壳体(2)的至少两个侧壁(25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)包括变形部分(25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b),所述侧壁(25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)布置于所述调制器元件(3)的相对的侧上。

7.根据权利要求1至6中的一项所述的电光调制器,其特征在于,所述至少一个侧壁(21,25,26,31,32,35,36,41,42,45,46,51,52)的所述至少一个变形部分(21b,25b,26b,31b,32b,35b,36b,41b,42b,45,46,51b,52b)被构造成影响调制能量的谐振驻波场,特别地被构造成补偿调制能量的谐振驻波场的畸变。

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