[发明专利]发光性膜、有机电致发光元件及有机电致发光元件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880086546.X 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN111937174A 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 田畑显一;井上晓;宫田康生 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;C09K11/06;H05B33/10;C07D209/80;C07D405/14;C07D455/04;C07D471/04;C07D471/14;C07D487/04;C07D519/00
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 有机 电致发光 元件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种发光性膜,其为至少含有磷光发光性化合物和荧光发光性化合物的发光性膜,

所述磷光发光性化合物的发光光谱与所述荧光发光性化合物的吸收光谱的重叠积分值满足下述式(1),

所述发光性膜的发光光谱中来自所述荧光发光性化合物的发光占9成以上,且

所述发光性膜的绝对量子收率(PLQE)由下述式(2)表示:

式(1):J≥1.5×1014

式(1)中,J意指磷光络合物的发光光谱与荧光发光性化合物的吸收光谱的重叠积分值,

式(2):PLQE(包含磷光发光性化合物+主体化合物的膜)×0.9≤PLQE(包含磷光发光性化合物+荧光发光性化合物的膜)

式(2)中,主体化合物的最低三重激发态比磷光发光性化合物的最低三重激发态高,不阻碍磷光发光性化合物的发光性。

2.根据权利要求1所述的发光性膜,其中,所述磷光发光性化合物的发光光谱与所述荧光发光性化合物的吸收光谱的重叠积分值满足下述式(3),

式(3):J≥6.0×1014

3.根据权利要求1或2所述的发光性膜,其含有以下主体化合物:该主体化合物的最低三重激发态存在于比所述磷光发光性化合物的最低三重激发态高的能量侧的能级。

4.根据权利要求1或2所述的发光性膜,其含有以下主体化合物:该主体化合物的最低三重激发态存在于比所述磷光发光性化合物的最低三重激发态低的能量侧的能级。

5.根据权利要求1或2所述的发光性膜,其为只由所述磷光发光性化合物和所述荧光发光性化合物构成的发光性膜。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的发光性膜,其中,就所述荧光发光性化合物而言,由该荧光发光性化合物构成的荧光发光性化合物单独膜的绝对量子收率为10%以上。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的发光性膜,其中,所述荧光发光性化合物为具有由下述通式(1)表示的结构的荧光发光性化合物,

通式(1)

X-(Y)n

通式(1)中,X表示14π电子系以上的π共轭稠环,Y表示重氢原子、卤素原子、氰基、硝基、羟基、巯基、取代或未取代的、烷基、环烷基、烯基、炔基、杂环基、烷氧基、环烷氧基、芳氧基、烷硫基、环烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨磺酰基、酰基、酰氧基、酰氨基、氨基甲酰基、脲基、亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、杂芳基磺酰基、氨基、氟代烃基、三芳基甲硅烷基、二芳基烷基甲硅烷基、芳基二烷基甲硅烷基、三烷基甲硅烷基、磷酸酯基、亚磷酸酯基、膦酰基或苯基、或具有由下述通式(2)表示的结构的基团,可进一步具有取代基,Y中的至少一个为具有由下述通式(2)表示的结构的基团,在Y有多个的情况下可彼此不同,n为1至可取代于X的最大数的整数,

通式(2)

通式(2)中,R1~R5相互独立地表示氢原子、重氢原子、卤素原子、氰基、硝基、羟基、巯基、烷基、环烷基、烯基、炔基、杂环基、烷氧基、环烷氧基、芳氧基、烷硫基、环烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨磺酰基、酰基、酰氧基、酰氨基、氨基甲酰基、脲基、亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基或杂芳基磺酰基、氨基、氟代烃基、三芳基甲硅烷基、二芳基烷基甲硅烷基、芳基二烷基甲硅烷基、三烷基甲硅烷基、磷酸酯基、亚磷酸酯基或膦酰基,可进一步具有取代基,R1或R5中的至少一者为具有由下述通式(3)或(4)表示的结构的基团,*1表示与X的键合部位,

通式(3)

通式(3)中,A表示碳原子或硅原子,R6~R8各自独立地表示与通式(2)中的R1~R5同样的基团,R6~R8中的至少一个为碳数1以上的烷基,*2表示与邻接原子的键合部位,

通式(4)

通式(4)中,R9和R10各自独立地表示与通式(2)中的R1~R5同样的基团,但至少一个为碳数1以上的烷基,*3表示与邻接原子的键合部位,通式(2)~(4)中的R1~R10中进行邻接的基团可相互键合而形成脂肪族环。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达株式会社,未经柯尼卡美能达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880086546.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top