[发明专利]投射光刻系统的光瞳分面反射镜、照明光学单元及光学系统

权利要求书

1.一种投射曝光设备(1)的照明系统(24)，包括：

1.1.照明光学单元(23)，用于将照明辐射传输到掩模母版(17)，以及

1.2投射光学单元(19)，用于将所述掩模母版(17)投射到晶片(22)上，

1.3其中，所述掩模母版(17)处的所述投射光学单元(19)的照明辐射的角度空间在第一方向上是所述照明光学单元(23)的照明辐射的角度空间的两倍。

2.根据权利要求1所述的光学系统(24)，其特征在于，所述掩模母版(17)相对于所述照明辐射的光束路径倾斜，使得其表面法线(26)整体位于所述投射光学单元(19)的照明辐射的光束中。

3.根据权利要求1至2中的任一项所述的光学系统(24)，其特征在于，光瞳分面反射镜(10)的实施例为半圆形。

4.根据权利要求1或2所述的光学系统(24)，其特征在于，所述投射光学单元(19)的物侧数值孔径为至少0.55。

5.根据权利要求1或2所述的光学系统(24)，其特征在于，所述掩模母版(17)处的所述投射光学单元(19)的照明辐射的角度空间在第二方向上的尺寸与所述照明光学单元(23)的照明辐射的角度空间的尺寸相同。

6.根据权利要求1或2所述的光学系统(24)，其特征在于，所述第一方向与所述掩模母版(17)的短范围的方向重合。

7.根据权利要求1或2所述的光学系统(24)，其特征在于，所述掩模母版(17)和所述晶片(22)二者各自可旋转180°。

8.根据权利要求1或2所述的光学系统(24)，其特征在于，所述投射光学单元(19)具有多个反射镜，其中，在所述投射光学单元(19)的光束路径中的前两个反射镜的反射表面是简单连续的。

9.根据权利要求1或2所述的光学系统(24)，其特征在于，所述投射光学单元(19)的光束的包络不与所述照明光学单元(23)的光束的包络重叠。

10.一种光瞳分面反射镜(10)，用于如权利要求1至9中的任一项所述的光学系统(24)的照明光学单元(23)，其特征在于，实施例为半圆形。

11.一种照明光学单元(23)，用于如权利要求1至9中的任一项所述的光学系统(24)，其特征在于，出射侧的最大孔径，该出射侧的最大孔径在第一方向上至多为与其垂直的第二方向上的70％。

12.根据权利要求11所述的照明光学单元(23)，其特征在于，如权利要求10所述的光瞳分面反射镜(10)。

13.一种微光刻的投射曝光设备(1)，包括：

13.1.如权利要求1至9中的任一项所述的光学系统(24)，以及

13.2辐射源(2)，用于生成照明辐射。

14.一种借助于投射曝光设备(1)照明晶片(22)的方法，包括以下方法步骤：

14.1提供具有如权利要求1至9中的任一项所述的光学系统的投射曝光设备(1)，

14.2在所述投射曝光设备(1)的物平面(16)中提供掩模母版(17)，

14.3在所述投射曝光设备(1)的像平面(21)中提供晶片(22)，

14.4借助于所述投射曝光设备(1)将所述掩模母版(17)第一次投射到所述晶片(22)上，

14.5将所述掩模母版(17)和所述晶片(22)各自绕光轴旋转180°，

14.6借助于所述投射曝光设备(1)将所述掩模母版(17)第二次投射到所述晶片(22)上。

15.一种使用如权利要求14所述的方法制造的微结构或纳米结构的部件。