[发明专利]用于增材制造的系统和方法有效
| 申请号: | 201880085268.6 | 申请日: | 2018-10-30 |
| 公开(公告)号: | CN111867811B | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
| 发明(设计)人: | 迈克尔·埃文斯·格拉哈姆;威廉·摩纳根;托马斯·查尔斯·阿德考克;安德鲁·J·马丁;约翰·约瑟夫·小马德隆;大卫·查尔斯·小波格丹;约翰·布罗德斯·小迪亚顿;威廉·托马斯·卡特 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
| 主分类号: | B29C64/255 | 分类号: | B29C64/255;B29C64/40;B29C64/141;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y10/00;B33Y50/02 |
| 代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐颖聪 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 制造 系统 方法 | ||
1.一种增材制造系统,其特征在于,包括:
构建平台;
位于所述构建平台上的第一多个颗粒;
位于所述构建平台上的颗粒容纳系统,所述颗粒容纳系统包括:
颗粒容纳壁,所述颗粒容纳壁至少部分地围绕所述第一多个颗粒,其中,所述颗粒容纳壁包括固结在一起的第二多个颗粒,所述颗粒容纳壁包括:
与所述构建平台间隔开的顶端;
内面,所述内面抵靠所述第一多个颗粒定位并在所述构建平台和所述顶端之间延伸;以及
面向基本上无颗粒的区域的外面,所述外面与所述内面相对地定位并在所述构建平台和所述顶端之间延伸;
其中,所述颗粒容纳系统进一步包括从所述颗粒容纳壁内面的至少一部分延伸到所述第一多个颗粒中的至少一个支撑部分,并且其中所述至少一个支撑部分包括固结在一起的第三多个颗粒;
其中,所述颗粒容纳系统进一步包括构建层保持器,所述构建层保持器从所述颗粒容纳壁的所述顶端沿着基本上正交于由所述顶端限定的平面的方向延伸,其中,所述构建层保持器被构造成保持包括多个所述第一多个颗粒的构建层的至少一部分;
其中,所述颗粒容纳系统进一步包括可移除部分,其中所述可移除部分被构造成从所述颗粒容纳系统移除以产生穿过所述颗粒容纳系统的颗粒通道,其中所述颗粒通道在所述第一多个颗粒和所述基本上无颗粒的区域之间延伸。
2.根据权利要求1所述的增材制造系统,其特征在于,其中,所述颗粒容纳壁是基本上实心的。
3.根据权利要求1所述的增材制造系统,其特征在于,其中,所述支撑部分是实心结构和包括多个单位单元格的格子结构中的一种。
4.根据权利要求1所述的增材制造系统,其特征在于,其中,所述内面和所述外面中的至少一个是凸出的、凹入的以及基本上垂直于所述构建平台定向的中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的增材制造系统,其特征在于,其中,所述颗粒容纳系统进一步包括至少一个后壁,所述至少一个后壁联接到与所述颗粒容纳壁相对的所述至少一个支撑部分,并且其中所述至少一个后壁包括固结在一起的第四多个颗粒。
6.一种制造部件的方法,其特征在于,利用权利要求1所述的增材制造系统,所述方法包括:
将颗粒沉积到构建平台上;
分布所述颗粒以形成构建层;
操作固结装置来沿着扫描路径固结第一多个颗粒以形成颗粒容纳系统,所述颗粒容纳系统包括:
颗粒容纳壁,所述颗粒容纳壁至少部分地围绕第一多个颗粒,其中,所述颗粒容纳壁包括固结在一起的第二多个颗粒,所述颗粒容纳壁包括:
与所述构建平台间隔开的顶端;
内面,所述内面抵靠所述第一多个颗粒定位并在所述构建平台和所述顶端之间延伸;以及
面向基本上无颗粒的区域的外面,所述外面与所述内面相对地定位并在所述构建平台和所述顶端之间延伸;
其中操作所述固结装置包括操作所述固结装置以形成从所述颗粒容纳壁内面的至少一部分延伸到所述第二多个颗粒中的至少一个支撑部分,并且其中所述至少一个支撑部分包括固结在一起的第三多个颗粒;
其中操作所述固结装置包括操作所述固结装置以形成构建层保持器,所述构建层保持器从所述颗粒容纳壁的所述顶端沿着基本上正交于由所述顶端限定的平面的方向延伸,其中所述构建层保持器被构造成保持包括多个所述第一多个颗粒的构建层的至少一部分。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,其中,操作所述固结装置进一步包括沿着所述扫描路径引导能量束以相对于由所述颗粒容纳壁的所述顶端限定的平面的零度至九十度之间的角度入射到所述第二多个颗粒上。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,其中操作所述固结装置以形成至少一个支撑部分包括形成支撑部分,所述支撑部分是实心结构和包括多个单位单元格的格子结构中的一种。
9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,其中,操作所述固结装置包括操作所述固结装置以形成颗粒容纳壁,所述颗粒容纳壁是基本上实心的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司,未经通用电气公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880085268.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





