[发明专利]表面处理剂和表面处理体的制造方法

权利要求书

1.一种表面处理剂，其是被处理体的表面处理中使用的表面处理剂，其包含：

(I)下述通式[1]、[2]和[3]所示的硅化合物之中的至少1种；

(II)下述通式[4]所示的含氮杂环化合物、下述通式[5]所示的含氮杂环化合物和咪唑之中的至少1种；以及

(III)有机溶剂，

(R¹)_a(H)_bSi〔N(R²)C(＝O)R³〕_4-a-b    [1]

式[1]中，R¹分别相互独立地为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的一价烃基，R²分别相互独立地为选自由部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基和氢元素组成的组中的基团，R³分别相互独立地为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基，a为1～3的整数，b为0～2的整数，a与b的总计为1～3，

(R⁴)_c(H)_dSi〔OC(＝O)R⁵〕_4-c-d    [2]

式[2]中，R⁴分别相互独立地为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的一价烃基，R⁵分别相互独立地为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基，c为1～3的整数，d为0～2的整数，c与d的总计为1～3，

(R⁶)_e(H)_fSi〔OC(R⁷)＝NSi(R⁸)_g(H)_3-g〕_4-e-f    [3]

式[3]中，R⁶和R⁸分别相互独立地为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的一价烃基，R⁷分别相互独立地为选自由部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基和氢元素组成的组中的基团，e为1～3的整数，f为0～2的整数，g为1～3的整数，e与f的总计为1～3，

式[4]中，R⁹和R¹⁰各自独立地为包含碳元素和/或氮元素且包含氢元素的二价有机基团，碳原子数与氮原子数的总计为1～9，在2以上的情况下，任选存在不构成环的碳元素，

式[5]中，R¹¹为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基、部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为2～6的烯基、部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷氧基、氨基、具有部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基的烷基氨基、具有部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基的二烷基氨基、部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的氨基烷基、硝基、氰基、苯基、苄基或卤素基团，R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地为部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～6的烷基或氢基。

2.根据权利要求1所述的表面处理剂，其中，(II)相对于所述(I)～(III)总量的浓度为0.05～10质量％。

3.根据权利要求1所述的表面处理剂，其中，所述(II)在25℃、1个大气压下为液体。

4.根据权利要求1所述的表面处理剂，其中，所述通式[5]的R¹¹是碳原子数为1～4的烷基，R¹²、R¹³和R¹⁴为氢基。