[发明专利]用于多核苷酸合成的加热的纳米孔

权利要求书

1.一种用于多核苷酸合成的方法，该方法包括：

a.提供：

包含表面的支持物；

位于所述表面上的用于多核苷酸延伸的多个结构，其中每个结构的宽度为约10nm至约1000nm，其中每个结构与加热单元接触，并且其中所述加热单元包含可寻址的电极；

分布在整个所述表面上的溶剂；以及

多核苷酸文库的预定序列；

b.在每个结构合成所述多核苷酸文库；以及

c.通过所述可寻址的电极施加电流，从而在每个结构加热所述溶剂，使得所述溶剂在气相中，从而防止从所述表面的至少一个区域延伸的至少一个多核苷酸的解封闭；

其中所述溶剂的沸腾温度不高于约82摄氏度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中合成从所述表面延伸的所述多核苷酸文库包括使所述表面与第一核苷酸亚磷酰胺接触。

3.根据权利要求2所述的方法，其中合成从所述表面延伸的所述多核苷酸文库进一步包括使所述表面与第二核苷酸亚磷酰胺接触，其中在与所述第一核苷酸亚磷酰胺和所述第二核苷酸亚磷酰胺接触之间不去除所述溶剂。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中合成从所述表面延伸的所述多核苷酸文库进一步包括使存在于所述表面的所述至少一个区域处的所述溶剂冷凝，并且使所述至少一个区域中从所述表面延伸的至少一个延伸的多核苷酸解封闭。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂的沸腾温度不高于约75摄氏度。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂的沸腾温度不高于约65摄氏度。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂的沸腾温度为30摄氏度至82摄氏度。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂的沸腾温度为55摄氏度至82摄氏度。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述表面包含至少30,000个用于核酸合成的座位。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述表面包含至少50,000个用于核酸合成的座位。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述表面包含至少100,000个用于核酸合成的座位。

12.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述表面包含至少200,000个用于核酸合成的座位。

13.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述表面包含至少1,000,000个用于核酸合成的座位。

14.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂为极性溶剂。

15.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂为乙腈。

16.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述溶剂当在液相中时允许从所述表面的至少一个区域延伸的至少一个多核苷酸的解封闭。