[发明专利]气体分离膜、气体分离膜元件及气体分离方法有效
申请号: | 201880082138.7 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN111491720B | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 高桥里奈;佐藤一树;小岩雅和;古野修治;佐佐木崇夫 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | B01D71/56 | 分类号: | B01D71/56;B01D53/22;B01D63/10;B01D69/10;B01D69/12 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 分离 元件 方法 | ||
1.气体分离膜,其具备:
多孔性支承膜,其含有芳香族聚酰胺,所述芳香族聚酰胺包含被氯基取代的芳香环,其中,相对于所述芳香环的摩尔数的总和而言,所述氯基的摩尔数所占的比例为40摩尔%以上;和
分离功能层,其设置于所述多孔性支承膜上并且含有交联聚酰胺,所述交联聚酰胺是多官能性胺与多官能性酰卤的缩聚物。
2.根据权利要求1所述的气体分离膜,其中,所述多孔性支承膜中所含有的芳香族聚酰胺具有下式(1)或式(2)中的至少一者所示的结构,
[化学式1]
[化学式2]
此处,Ar1、Ar2分别为选自由下式(3)或式(4)所示的基团组成的组中的至少1个基团,且Ar1、Ar2不同时为式(4)所示的基团;Ar3为选自下式(3)所示的基团中的至少1个基团,另外,X、Y、Z为选自由-O-、-CH2-、-CO-、-CO2-、-S-、-SO2-、-C(CH3)2-组成的组中的至少1个基团,
[化学式3]
[化学式4]
3.根据权利要求2所述的气体分离膜,其具有所述式(3)所示的结构,且取代基被配置在对位。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的气体分离膜,其中,在所述多孔性支承膜表面,孔径为8nm以上的孔为全部孔的15%以下。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的气体分离膜,其中,所述多孔性支承膜表面的最大孔径为12nm以下。
6.气体分离膜元件,其具备:
将透过气体集聚的中心管;和
围绕所述中心管被卷绕成螺旋状的、权利要求1~5中任一项所述的气体分离膜。
7.气体分离方法,其为使用权利要求1~5中任一项所述的气体分离膜的气体分离方法,所述气体分离方法包括以下的工序:
工序(a),向所述气体分离膜的一个面供给包含氢和氦中的至少一者的混合气体;以及
工序(b),从所述气体分离膜的另一个面得到氢和氦中的至少一者的浓度高于所述混合气体的气体。
8.根据权利要求7所述的气体分离方法,其中,所述混合气体含有二氧化碳及氮中的至少一者。
9.根据权利要求7或8所述的气体分离方法,其中,所述混合气体的温度为80℃以上。
10.气体的制造方法,其包含权利要求7~9中任一项所述的气体分离方法。
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