[发明专利]流量测量装置与方法有效
| 申请号: | 201880081935.3 | 申请日: | 2018-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN111512124B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
| 发明(设计)人: | 伊斯梅尔·巴斯克斯·加西亚;卡洛斯·佩雷斯·贝坦索斯;若泽·特里戈·科利亚索;里卡多·洛里多·桑托罗 | 申请(专利权)人: | 阿克特加阿蒂斯蒂卡有限公司 |
| 主分类号: | G01F3/00 | 分类号: | G01F3/00;G01F1/58;B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02 |
| 代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;高晓莉 |
| 地址: | 西班牙蓬*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 流量 测量 装置 方法 | ||
1.流量测量系统(1),用于对多个零件(9)施加流体的系统,所述流量测量系统(1)适于测量施加至多个所述零件(9)中的每个零件的流体的流动速率,
所述施加流体的系统包括:
多个支撑装置(10),多个所述支撑装置(10)被配置为用于支撑多个所述零件(9);
多个流体注射器(2),多个所述流体注射器(2)布置在流体施加平台(3)中,多个所述流体注射器(2)适于注射流体;
其中所述流量测量系统(1)包括:
多个流量计(4),每个所述流量计(4)与所述流体注射器(2)中的一个流体连通,多个所述流量计(4)被配置为生成、处理和传输与所注射的流体的流动速率相关的信号;
至少一第一信号处理装置(7),适于处理多个所述流量计(4)的流动速率信号;以及
流体测量平台(6),所述流体测量平台(6)独立于所述流体施加平台(3),并且所述流体测量平台(6)适于保持至少多个所述流量计;
并且其中,所述施加流体的系统被配置为生成与将流体施加到多个所述零件(9)中的零件(9)相关的一个或多个信号,并且可操作地连接于所述第一信号处理装置(7)。
2.如前述权利要求所述的流量测量系统(1),其特征在于,
所述施加流体的系统是旋转流体施加系统,并且
所述流体测量平台(6)被配置为与所述旋转流体施加系统的所述流体施加平台(3)一起旋转。
3.如前述权利要求中任意一项所述的流量测量系统(1),其特征在于,
所述施加流体的系统包括位于至少一所述支撑装置(10)中的一个或多个位置传感器(8),所述位置传感器(8)被配置为生成与将流体施加到多个所述零件(9)中的零件(9)相关的信号,并且
所述第一信号处理装置(7)可操作地连接于一个或多个所述位置传感器(8),并且所述第一信号处理装置(7)被配置为利用与将流体施加到零件(9)相关的信号对多个所述零件(9)中已处理的零件(9)的数量进行计数。
4.如权利要求1所述的流量测量系统(1),还包括至少一第二信号处理装置(5),所述第二信号处理装置(5)适于处理每个流量计的流动速率信号或与将流体施加到所述零件(9)中的零件(9)相关的信号,或适于处理两者,并且可操作地连接于所述第一信号处理装置(7)。
5.如权利要求4所述的流量测量系统(1),其特征在于,所述流体测量平台(6)适于保持所述第一信号处理装置(7)、或所述第二信号处理装置(5)、或保持两者。
6.如权利要求1所述的流量测量系统(1),其特征在于,多个所述流量计(4)中的所述流量计为高精度流量计。
7.如权利要求6所述的流量测量系统(1),其特征在于,所述高精度流量计为电磁流量计。
8.如权利要求1所述的流量测量系统(1),其特征在于,多个所述流量计(4)基本上布置在所述流体测量平台(6)的外部。
9.如权利要求1所述的流量测量系统(1),其特征在于,多个所述流量计(4)基本上布置在所述流体测量平台(6)的内部。
10.如权利要求1所述的流量测量系统(1),其特征在于,所述流体测量平台(6)包括多个开口,多个所述开口被配置为使得能够在每个所述流量计(4)与至少所述第一信号处理装置(7)之间形成可操作的连接,或者使得能够在多个所述流量计(4)与多个所述流体注射器(2)之间形成流体连通,或使得两者都能形成。
11.如权利要求1所述的流量测量系统(1),其特征在于,所述流体测量平台(6)包括基本对称的形状。
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