[发明专利]铁电组合件及形成铁电组合件的方法在审
申请号: | 201880081034.4 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN111492479A | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 艾伯特·廖;曼札拉·西迪克 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L27/11502 | 分类号: | H01L27/11502;H01L27/11585;H01L49/02;H01L29/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 形成 方法 | ||
1.一种铁电组合件,其包括:
铁电绝缘材料上方的金属氧化物;所述金属氧化物具有小于或等于约的厚度;及
所述金属氧化物上方的含金属电极。
2.根据权利要求1所述的组合件,其中所述金属氧化物是具有在从约1个单层到约的范围内的厚度的连续层。
3.根据权利要求1所述的组合件,其中所述金属氧化物是不连续膜。
4.根据权利要求1所述的组合件,其是铁电电容器。
5.根据权利要求1所述的组合件,其是铁电隧道结装置。
6.根据权利要求1所述的组合件,其是铁电场效应晶体管。
7.一种电容器,其包括:
第一电极与第二电极之间的铁电绝缘材料;及
所述第二电极的至少一部分与所述铁电绝缘材料之间的金属氧化物;所述金属氧化物具有小于或等于约的厚度。
8.根据权利要求7所述的电容器,其中所述金属氧化物是具有在从约1个单层到约的范围内的厚度的连续层。
9.根据权利要求7所述的电容器,其中所述金属氧化物是不连续膜。
10.根据权利要求7所述的电容器,其中所述电容器由含半导体基底支撑;且其中所述第一电极是底部电极且所述第二电极是顶部电极,其中所述底部电极比所述顶部电极更靠近基底。
11.根据权利要求10所述的电容器,其中所述金属氧化物是具有在从约1个单层到约的范围内的厚度的连续层。
12.根据权利要求10所述的电容器,其中所述金属氧化物是不连续膜。
13.根据权利要求10所述的电容器,其中所述金属氧化物由含金属材料构成,所述含金属材料具有延伸穿过其的氧浓度梯度,其中所述氧浓度沿着与所述第二电极的界面最高而沿着与所述第二电极的界面最低。
14.根据权利要求10所述的电容器,其中所述金属氧化物本质上由氧以及钛、铝、钌、铌及钽中的一或多者组成。
15.根据权利要求10所述的电容器,其中所述金属氧化物本质上由氧化钛组成。
16.根据权利要求7所述的电容器,其是存储器阵列内的多个基本上相同的电容器中的一者。
17.一种电容器,其包括:
第一电极与第二电极之间的铁电绝缘材料;及
所述第二电极的至少一部分与所述铁电绝缘材料之间的含金属材料;所述含金属材料具有小于或等于约的厚度;所述含金属材料包含氧以及钛、铝、钌、铌及钽中的一或多者。
18.根据权利要求17所述的电容器,其中所述电容器由含半导体基底支撑;且其中所述第一电极是底部电极且所述第二电极是顶部电极,其中所述底部电极比所述顶部电极更靠近基底。
19.根据权利要求18所述的电容器,其中所述含金属材料包含一或多种氮、碳、硅及锗。
20.根据权利要求18所述的电容器,其中所述含金属材料包含钛及氧。
21.根据权利要求20所述的电容器,其中所述第一电极及所述第二电极包括氮化钛。
22.根据权利要求17所述的电容器,其是存储器阵列内的多个基本上相同的电容器中的一者。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的