[发明专利]涡轮分子泵和用于控制处理室中压力的方法及设备

权利要求书

1.一种涡轮分子泵，包括：

转子，其包括在可旋转轴上的多个叶片；

控制马达，其用于驱动所述可旋转轴；其中

所述控制马达的尺寸设计成输出以足够高的恒定速度驱动所述轴以提供5毫巴的排气压力所需的功率的三倍或更多倍的功率。

2.根据权利要求1所述的涡轮分子泵，其中，所述涡轮分子泵包括拖曳级。

3.根据权利要求1所述的涡轮分子泵，其中，所述涡轮分子泵不包括拖曳级。

4.根据前述权利要求中任一项所述的涡轮分子泵，所述转子还包括裙部部分，所述裙部部分在轴向方向上延伸超过所述转子的所述叶片，并且具有与所述轴同轴并围绕所述轴的环形横截面，所述裙部部分形成所述控制马达的转子。

5.根据从属于权利要求2的权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述涡轮分子泵包括霍尔威克拖曳级，所述裙部部分包括所述霍尔威克拖曳级的裙部。

6.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述裙部部分包括磁体。

7.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述裙部部分包括邻近所述转子的所述叶片的较小横截面和远离所述叶片的较大横截面。

8.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述控制马达的定子布置在所述裙部部分内部并围绕所述轴。

9.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述控制马达的定子布置在所述裙部部分周围。

10.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述泵包括泵壳体，并且所述控制马达位于所述泵壳体内。

11.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，所述涡轮分子泵包括用于驱动所述轴的另一马达，所述另一马达和所述可旋转轴形成驱动主轴，并且所述控制马达围绕所述驱动主轴形成。

12.根据权利要求11所述的涡轮分子泵，其中，所述另一马达被构造成在稳态操作期间驱动所述转子，并且所述控制马达被构造成在所述涡轮分子泵的所述转子的加速和减速期间驱动所述转子。

13.根据权利要求4所述的涡轮分子泵，其中，所述泵包括用于控制所述涡轮分子泵的入口处的压力的控制电路，所述控制电路被构造成控制所述控制马达以控制所述转子的速度，从而控制所述涡轮分子泵的入口处的压力。

14.根据权利要求13所述的涡轮分子泵，其中，所述涡轮分子泵包括排气阀，所述控制电路被构造成结合控制所述控制马达以减慢所述转子来控制所述排气阀以增加所述涡轮分子泵的排气口处的压力。

15.根据权利要求14所述的涡轮分子泵，所述涡轮分子泵包括在排气口处的吹扫气体入口，其中，所述控制电路被构造成结合控制所述控制马达以减慢所述转子来控制在所述排气口处的吹扫气体的添加。

16.一种用于控制处理室中的压力的设备，所述设备包括根据前述权利要求中任一项所述的涡轮分子泵，所述涡轮分子泵连接到所述处理室，所述处理室的所述压力由控制器控制，所述控制器被构造成控制所述涡轮分子泵的旋转速度。

17.根据权利要求16所述的设备，其中，所述涡轮分子泵直接连接到所述处理室。

18.一种控制处理室中压力的方法，所述方法包括：

响应于确定所述处理室中的压力将被降低，使连接到所述处理室的涡轮分子泵加速；和

响应于确定所述处理室中的压力将增加，使连接到所述处理室的涡轮分子泵减速；其中

所述涡轮分子泵的所述加速和减速由控制马达完成，所述控制马达尺寸设计成输出以足够高的恒定速度驱动轴以提供5毫巴的排气压力所需的功率的三倍以上的功率。