[发明专利]激光装置和激光处理方法有效
| 申请号： | 201880080264.9 | 申请日： | 2018-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN111479649B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 星光成 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | B23K26/064 | 分类号： | B23K26/064;B23K26/00;B41J2/44;B41M5/26;B41J2/475;G02B5/30;H01S3/00;H01S3/10 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 装置 处理 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种激光装置，包括：
光源，所述光源使激光振荡；和
反射型偏振器，所述反射型偏振器设置在所述激光的光路上并且具有与所述激光的偏振方向一致的透射轴，
其中在从所述反射型偏振器射出的所述激光的前方设置有延迟器，并且使用相位差量为约λ/8的延迟器或者相位差为500,000纳米以上的延迟器作为所述延迟器。
2.根据权利要求1所述的激光装置，其中所述反射型偏振器包括入射面，所述入射面被设置成与所述激光的光轴大致垂直。
3.一种激光处理方法，包括：将来自光源的振荡激光通过透射轴与所述激光的偏振方向一致的反射型偏振器来照射被照射体，其中在从所述反射型偏振器射出的所述激光的前方设置有延迟器，并且使用相位差量为约λ/8的延迟器或者相位差为500,000纳米以上的延迟器作为所述延迟器。
4.根据权利要求3所述的激光处理方法，其中将透过所述反射型偏振器的所述激光进一步经由延迟器来照射所述被照射体。
5.根据权利要求3所述的激光处理方法，进一步包括：将所述被照射体放置在XY双轴工作台上，并且通过在面内方向上扫描所述XY双轴工作台而对所述被照射体的期望区域照射所述激光。
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