[发明专利]分析方法在审
申请号: | 201880079730.1 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN111527399A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 迈克尔·菲茨杰拉德;伊拉克利斯·帕帕斯;让-弗朗索瓦·加亚尔;马尔科·阿尔西纳科尔巴兰 | 申请(专利权)人: | 高露洁-棕榄公司;西北大学 |
主分类号: | G01N23/087 | 分类号: | G01N23/087 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 郑斌;陈九洲 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 分析 方法 | ||
本公开包含一种量化和/或评估洁齿剂中的金属离子的方法,其中所述方法包括使所述洁齿剂经受X射线吸收光谱法(XAS),并且其中所述XAS用于测量和/或评估所述洁齿剂中的所述金属离子。还公开了基于洁齿剂的金属离子含量的评估和量化而选择和筛选洁齿剂的方法。
背景技术
牙膏通常含有锡(Sn)和锌(Zn)化合物以提供抗微生物功能。虽然已充分确定了牙膏配方中的金属的初始化学形式(例如SnF2、ZnO),但是尚不清楚它们是否能按原样保留在最终产品中。原始组成的变化是与牙膏中存在的许多化合物(包括甘油、磨料、稳定剂、多糖和磷酸盐)相互作用的结果。当糊剂被口腔内部的唾液稀释时,金属的化学形态会发生进一步变化。
X射线吸收光谱法(XAS)是一种强大的结构工具,用于探测多种样品类型中的金属的局部配位环境。简而言之,XAS使用高能X射线(由同步辐射源生成)来激发特定原子的核心电子。吸收曲线提供了有关氧化态、配位几何形状和与附近原子的埃级距离的信息。无论样品的物理状态如何,都可以使用XAS,并且不需要在分析前进行掺伪或准备。XAS常用于环境科学中,其中关注的是原始环境样品中的金属形态。
当前,需要一种技术来更好地分析洁齿剂配制品中的金属离子,因为与最终洁齿剂配制品相比,在实验室环境中测试的配制品可能有所变化。
发明内容
申请人已惊讶地发现,可以使用X射线吸收光谱(XAS)检测技术以便分析洁齿剂组合物中的金属离子(例如,亚锡和锌)。这种检测技术允许分析洁齿剂中金属离子(例如,锡、锌)的相互作用,然后可以允许优化这些相互作用以开发更有效的配制品。X射线吸收光谱法是一种极其强大的工具,用于在没有样品掺伪的情况下直接检查洁齿剂中的金属形态。因为可以直接检查洁齿剂,而不仅仅是在实验室环境中制成的可能不含有可能影响金属离子形态的辅助组分的浆料或制剂,所以使用XAS有可能提供改进的金属形态分析,例如在最终洁齿剂产品中。
这里,在一个方面,本发明使用X吸收光谱法(XAS)、热力学平衡形态和从头算来提供通用牙膏和化合物混合物中的Sn和Zn的配位环境,以便确定可能影响口腔微生物群落的化学物种。因为它是一种元素特定的方法,因此复杂混合物中辅助成分的干扰通常很小。这些特性使XAS成为探测洁齿剂中锡和锌形态的理想工具。
在一个方面,本发明提供了一种使用XAS直接在洁齿剂上量化和/或评估洁齿剂中的金属离子源的方法。例如,在这个方面,XAS可用于确定亚锡和/或锌的形态。
在另一方面,本发明提供了一种选择或筛选洁齿剂的方法,其中将XAS直接应用于洁齿剂以评估和/或量化金属离子形态,并且其中选择洁齿剂以便基于使用XAS确定金属形态来进一步生产和/或商业化。
在又一方面,本发明提供了使用XAS在测试的洁齿剂上获得或开发的组合物。
附图说明
图1是所分析的洁齿剂样品的XANES光谱(彩色线)和添加H2O2后的XANES光谱。
图2是本研究中使用的洁齿剂样品的主成分分析的输出。左:每个成分对解释的数据变异的贡献。右:每个样品在成分矩阵中的投影。
图3提供了使用从样品集中识别的主成分拟合已知参考物的尝试。
图4提供了在PCA和目标转换后实验确定的洁齿剂样品的形态信息。
具体实施方式
在一个方面,本发明涉及量化和/或评估洁齿剂中的金属离子(例如Sn(II))源的存在和形态。在一个方面,本发明涉及方法1,一种量化和/或评估洁齿剂(例如牙膏)中的金属离子源的方法,其中所述方法包括使所述洁齿剂经受X射线吸收光谱法(XAS),其中所述XAS用于量化和/或评估所述洁齿剂中的所述金属离子。
举例来说,方法1包括以下各项:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高露洁-棕榄公司;西北大学,未经高露洁-棕榄公司;西北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880079730.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。